溅射镀膜技术的应用 1. 制备薄膜磁头的耐磨损氧化膜 硬盘磁头进行读写操作时与硬盘表面产生滑动摩擦，为了减小摩擦力及提高磁头寿命，磁头正向薄膜化方向发展。绝缘膜和保护膜(即AL 2 O 3 、SiO 2 氧化物薄膜)是薄膜磁头主要构成成份。对薄膜磁头的耐磨损膜的要求是耐冲击性好，耐磨性好，有适当的可加工性以及...
溅射 溅射(sputtering),也称溅镀(sputter deposition/coating),是一种物理气相沉积技术,指固体靶target(或源source)中的原子被高能量离子(通常来自等离子体)撞击而离开固体进入气体的物理过程。 溅射一般是在充有惰性气体的真空系统中,通过高压电场的作用,使得氩气电离,产生氩离子流,轰击靶阴极,被溅出的靶材料原子或分...
溅射工艺是以一定能量的粒子（离子或中性原子、分子）轰击固体表面，使固体近表面的原子或分子获得足够大的能量而最终逸出固体表面的工艺。溅射只能在一定的真空状态下进行。原理 溅射工艺图如图1所示，溅射镀膜最初出现的是简单的直流二极溅射，它的优点是装置简单，但是直流二极溅射沉积速率低；为了保持自持放电，不能...
1、定义:所谓溅射,就是这充满腔室的工艺气体在高电压的作用下,形成气体等离子体(辉光放电),其中的阳离子在电场力作用下高速向靶材冲击,阳离子和靶材进行能量交换,使靶材原子获得足够的能量从靶材表面逸出(其中逸出的还可能包含靶材离子)。这一整个的动力学过程,就叫做溅射。
溅射,这个名词在材料科学领域里可不简单,它是一种用来制备薄膜的技术,有着广泛的应用。简单来说,溅射就是一种利用带电粒子轰击靶材,使靶材表面的原子或分子逸出,并沉积在基底上形成薄膜的过程。想象一下,在一个真空的腔室里,充满了惰性气体(比如氩气),然后给这些气体加上高电压,它们就...
1.1 溅射定义 就像往平静的湖水里投入石子会溅起水花一样,用高速离子轰击固体表面使固体中近表面的原子(或分子)从固体表面逸出,这种现象称为溅射现象。 1.2 溅射的基本原理 溅射是指具有足够高能量的粒子轰击固体表面使其中的原子发射出来。早期人们认为这一现象源于靶材的局部加热。但是不久人们发现溅射与蒸发有本质区...
溅射方法是一种利用溅射原理及技术处理加工材料表面的现代技术方法。溅射，也称阴极溅射，其基本原理是：在直流或射频高压电场的作用下利用形成的离子流轰击阴极靶材料表面，使离子的动能和动量转移给固体表面的原子，因化学键断裂而飞出(或称飞溅)。通常采用的轰击离子是隋性气体氩受高压电场的作用而电离，并形成具有...
定义：溅射阈值是指将靶材原子溅射出来所需的入射离子最小能量值。影响因素：靶材、原子序数（阈值随原子序数增加而减少）等。溅射条件：入射离子能量大于溅射阈值。 pass 定义：入射正离子轰击靶阴极时，平均每个正离子能从靶阴极中打出的原子数。影响因素：入射离子（种类、能量、角度）、靶材的结构和...
VAC COAT溅射沉积法 在物理学中,溅射被称为高能粒子/离子等离子体敲除固体目标表层上的物质的过程。这种现象自然发生在外太空,不断形成宇宙,导致航天器腐蚀。在这里,在地球上,科学和工业利用溅射工艺来产生或消除纳米/微米厚度的薄膜,用于光学、电子等领域的各种应用。 薄膜 什么是溅射? 由于高能离子与目标材料原子的...