溅射镀膜是一种物理气相沉积技术,它利用高能粒子轰击靶材,使靶材表面的原子或分子溅射出来,然后在基片上沉积形成薄膜。这种技术可以在各种材料表面制备出高质量、高性能的薄膜,广泛应用于电子、光学、机械、航空航天等领域。溅射镀膜的分类1、直流溅射直流溅射是最早出现的溅射镀膜技术之一。它...
离子溅射镀膜法是离子溅射形成干涉膜是增进相间衬度显示组织的新方法。离子溅射镀膜法 离子溅射镀膜是在部分真空的溅射室中辉光放电，产生正的气体离子；在阴极（靶）和阳极（试样）间电压的加速作用下，荷正电的离子轰击阴极表面，使阴极表面材料原子化；形成的中性原子，从各个方向溅出，射落到试样的表面，于是在试样...
1.溅射镀膜设备的基本构造： 溅射镀膜设备主要包括真空腔体、靶材、电源、气体供应系统和基材载体等。真空腔体提供一个低压环境，有助于形成稳定的等离子体。电源用于产生电场，使惰性气体电离形成等离子体并维持其稳定。2.直流溅射与射频溅射： 根据电源类型的不同，溅射镀膜可以分为直流溅射（DC Sputtering）和射频溅射...
溅射镀膜基于物理气相沉积过程，其中目标材料（靶材）被高能粒子轰击，导致原子或分子从靶材表面溅射出并沉积到基片（底物）上，形成薄膜。该过程在真空环境中进行，其中氩气常用作溅射气体，提供必要的离子以轰击靶材。磁控溅射与传统溅射的区别 磁控溅射镀膜技术的关键创新在于利用磁场来增强溅射过程。通过在溅射靶材附近...
第一章:真空溅射镀膜的基础理论 A. 真空溅射的基本原理 溅射效应的物理机制 溅射效应是一种由高能离子轰击固体表面引发的物理现象。该过程的核心在于动能的传递:当离子(通常是氩离子)在电场加速下获得足够的动能并撞击靶材表面时,动能传递给表面原子,导致原子脱离靶材表面并形成原子气相。这些气相原子随后沉积在基底上,...
一、磁控溅射镀膜的工作原理 磁控溅射镀膜作为物理气相沉积(PVD)技术的一个重要分支,通过离子轰击靶材并沉积在基片上形成薄膜。这种工艺不仅广泛应用于微电子、光学和能源等领域,而且在高质量薄膜的制造中具有独特优势。 1.1 溅射镀膜的基本原理 离子轰击与溅射现象 ...
每日科技名词|溅射镀膜 溅射镀膜 sputtering coating 定义：在真空条件下以惰性气体的荷能粒子轰击固体靶材表面使靶材原子或分子射出并沉积、成膜于衬底表面的镀膜技术。学科：光学_光学薄膜 相关词：真空镀膜 溅射沉积 光学薄膜 【延伸阅读】溅射镀膜是一种真空镀膜技术，也是溅射工艺的一项重要应用。它由溅射和镀膜两个...
磁控溅射镀膜工艺的基本原理 溅射效应与等离子体形成 磁控溅射镀膜是一种先进的物理气相沉积（PVD）技术，其核心在于利用溅射效应将靶材原子转移到基材表面，从而形成薄膜。溅射效应是指当高能离子撞击固体表面时，靶材表面原子被击出并散射的现象。在磁控溅射过程中，首先在真空腔体中引入惰性气体（通常是氩气）。当高压...