在溅射镀膜过程中,靶坯被离子撞击后,其表面原子被溅射飞散出来并沉积于基板上制成电子薄膜; (2)背板主要起到固定溅射靶材的作用,涉及绑定工艺。由于靶坯强度较低,而溅射靶材需要安装在专用的机台内完成溅射过程。机台内部为高电压、高真空环境,因此,溅射靶坯需要与背板通过不同...
溅射过程中，靶材需要承受高速离子的持续撞击，因此需要具备良好的机械强度和韧性，以保持形状和尺寸的稳定性。1.3 化学稳定性 靶材在溅射过程中应具有良好的化学稳定性，以防止与反应室内的其他材料发生不良反应，影响薄膜的纯度和性能。1.4 导电性和导热性 对于需要通电加热的溅射工艺，靶材需要有良好的导电性和导热...
靶坯系射靶材中的核心部分,是溅射镀膜过程中高动能离子束流轰击的目标材料,靶坯被离子撞击后,表面的原子被溅来并沉积于基板表面形成薄膜。背板主要用于固定支撑靶坯材料、导热、导电,一般由金属材料制成,因溅射靶材需安装在专用的溅射镀膜设备内完成溅射过程,设备内部为高电压、高真空的工作环境,多数靶坯的材质较软...
磁控溅射原理 电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。 在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,而产生的二次电子会受到电场和磁场作用,产生E(电场)×B(...
90％。国内市场方面，随着国内制造业生产观念逐渐从“依靠廉价劳动力”向“改进加工手段提高效率”进行转变，以及机床市场的数控化转型升级，我国刀具等工具的镀膜比例也在不断提升，工具镀膜用溅射靶材的需求有望不断提升。工具镀膜较为常用的溅射靶材主要包括铬靶、铬铝靶等，纯度一般在 3N5 左右。
靶距是磁控溅射过程中的一个关键参数，其大小直接影响着溅射速率、薄膜厚度与均匀性、以及薄膜质量。靶距过大会导致多种不利影响，下面将从溅射速率、薄膜厚度与均匀性、以及薄膜质量三个方面详细分析靶距过大的影响因素。2.1 溅射速率的变化 2.1.1 靶距过大对溅射速率的影响 溅射速率是指单位时间内从靶材表面...
单质靶金属单质靶材:Al,铜,银,镍,钼,铌,铬,铂,金,钪,钛,铅,钴,铌,钯,铟,铋,铪等 非金属单质:硒,硅,硼,碳,碲等 复合靶材 硼化物溅射靶材:Cr5B3,HfB2, Mo2B5, NbB等 硬质合金溅射靶材:SiC,WC,AlCu,NiCr,CoFe等 氮化物溅射靶材:AlN,GaN,HfN、NbN、Si 3 N 4、TICN、TaN、TiN、ZrN等 ...
中国在全球溅射靶材市场中的地位日益突显，得益于其庞大的制造业基础和持续的技术创新。随着国家对半导体自给自足的战略推进和新能源汽车、5G通信等行业的快速发展，对高品质溅射靶材的需求亦随之增长。溅射靶材技术概述 1. 定义及作用 溅射靶材，是指在物理气相沉积（PVD）过程中，被用作溅射源的材料。通过利用高...
其中,靶坯是制备过秳中高速离子流轰击的目标材料,其表面原子被轰击后飞散出来沉积形成薄膜材料;而背板具有良好的导申、导热性能,主要起在轰击过程中固定溅射靶材的作用。 二、溅射靶材分类 (1)按形状分类 溅射靶材按形状可分为长靶、方靶、圆靶、管靶。 (2)按化学成份分类 溅射靶材按化学成分可分为金属靶材...