中文名:镍铬片,英文名:NICKEL CHROMIUM,CAS:11106-97-1,化学式:CrNi,分子量:110.69,密度:3.1,水溶性:Insoluble in water.,MSDS.
英文名NICKEL IRON 别名铁镍 镍铁溅射靶材 镍铁溅射靶材, 50.8MM (2.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THICK, 镍铁溅射靶材, 50.8MM (2.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THICK, 镍铁溅射靶材, 76.2MM (3.0IN) DIA X 3.18MM (0.125IN) THICK, 镍铁溅射靶材, 76.2MM (3.0IN) DIA X 6.35MM (0.250IN) THI...
英文名称: 总访问: 3151 国产/进口: 进口 半年访问: 40 产地/品牌: 美国pelco 产品类别: 其他实验耗材 规格: 57mm 最后更新: 2024-5-10 货号: 参考报价: 0 立即询价 电话咨询 [发表评论] [本类其他产品] [本类其他供应商] [收藏] 分享:微信新浪微博销售商: 广州竞赢化工科技有限公司 查看该公司...
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内容提示: 附件一: Varian3290 溅射台靶材材料规范 附件 1.1: NiPt 5% 3290 Quantum 靶材材料技术规范 1.0 标题: NiPt 5% 3290 Quantum 靶材材料技术规范 2.0 材料名称与料号: 2.1 名称: NiPt 5% 3290 Quantum 靶材 英文名: NiPt 5% 3290 Quantum target 纯度: >99.99% 尺寸: 6 英寸 标准 3290 Quantum ...
标准简介 本标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同(或订货单)内容。 本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯铜溅射靶材。英文名称: High-purity sputtering copper target used in electronic film...
带背板的溅射靶材组件问题补充:匿名 2013-05-23 12:21:38 Sputtering target components with backplane 匿名 2013-05-23 12:23:18 A backplane sputtering target materials components 匿名 2013-05-23 12:24:58 Belt back board sputtering target material module 匿名 2013-05-23 12:26:38 ...
英文名称:High-purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film 中标分类:冶金>>有色金属及其合金产品>>H61轻金属及其合金 ICS分类:冶金>>有色金属>>77.120.10铝和铝合金 发布部门:中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局 中国国家标准化管理委员会 ...