我们将使用一个特殊的SAMPLER_CMP宏来定义采样器状态,这个宏定义了一种不同的方式来采样阴影贴图,因为常规的双线性过滤对深度数据没有意义。 TEXTURE2D_SHADOW(_DirectionalShadowAtlas); SAMPLER_CMP(sampler_DirectionalShadowAtlas); 实际上,只有一种恰当的方法可以对阴影贴图进行采样,因此我们可以定义一个明确的采样器...
通常这是通过SAMPLER宏完成的,但是我们将使用一个特殊的比较采样器,所以使用SAMPLER_CMP代替。为了得到正确的采样状态,我们必须赋予它与纹理相同的名称,采样器写在它的前面。 TEXTURE2D_SHADOW(_ShadowMap); SAMPLER_CMP(sampler_ShadowMap); 创建一个阴影衰减函数,以世界位置为参数。它会返回光的阴影的衰减系数。它...
通常我们是用的是宏SAMPLER ,但是这里我们需要使用另外一个特殊的比较采样器,所以使用SAMPLER_CMP。为了得到正确的采样器状态,应使用sampler前缀再加上贴图名字作为参数。 TEXTURE2D_SHADOW(_ShadowMap); SAMPLER_CMP(sampler_ShadowMap); 1. 2. 什么是纹理采样器? 在旧的GLSL代码中,我们使用sampler2D来同时定义纹理...
*“Compare”(可选)设置用于深度比较的采样器;与 HLSL SamplerComparisonState 类型和 SampleCmp/SampleCmpLevelZero 函数配合使用。 以下是分别使用sampler_linear_repeat和sampler_point_repeat采样器状态进行纹理采样的示例,说明了如何通过名称控制过滤模式:
SAMPLER_CMP(sampler_CustomShadowMap); float3 CustomApplyShadowBias(float3 positionWS, float3 normalWS) { float3 lightDirectionWS = _LightDir; float invNdotL = 1.0f - saturate(dot(lightDirectionWS , normalWS)); float scale = invNdotL * _NormalBias * 0.01f; ...
我们将使用一个特殊的SAMPLER_CMP宏来定义采样器状态,因为这确实定义了一种不同的方式来采样阴影贴图,因为常规的双线性过滤对深度数据没有意义。 实际上,只有一种合适的方法可以对阴影贴图进行采样,因此我们可以定义一个明确的采样器状态,而不是依赖Unity推导的渲染纹理状态。可以内联定义采样器状态,方法是在其名称...
“Compare” (optional) set up sampler for depth comparison; use with HLSL SamplerComparisonState type and SampleCmp / SampleCmpLevelZero functions. 意思是根据名字组合,如 sampler_<过滤><UV处理> 形成一个变量名,用这个变量作为参数形成采样 例如:sampler_LinearClamp 这个表示采样过滤是linear,超过(0,1)...
这和阴影贴图一样,但是用TEXTURE2D和 SAMPLER宏替换 。 AI检测代码解析 TEXTURE2D_SHADOW(_CascadedShadowMap); SAMPLER_CMP(sampler_CascadedShadowMap); TEXTURE2D(_MainTex); SAMPLER(sampler_MainTex); 1. 2. 3. 4. 5. 我们用UV坐标进行采样,它是网格数据的一部分。所以添加到顶点着色器的输入和输出。 AI...
*“Compare”(可选)设置用于深度比较的采样器;与 HLSL SamplerComparisonState 类型和 SampleCmp/SampleCmpLevelZero 函数配合使用。 以下是分别使用和采样器状态进行纹理采样的示例,说明了如何通过名称控制过滤模式: 以下是分别使用、、、和采样器状态的示例,说明了如何通过名称控制包裹模式。在上一个示例中,为水平轴 ...
由于图集不是常规的纹理,因此我们可以通过TEXTURE2D_SHADOW宏对其进行定义,即使它对我们支持的平台没有影响,也要使其清晰可见。我们将使用一个特殊的SAMPLER_CMP宏来定义采样器状态,因为这确实定义了一种不同的方式来采样阴影贴图,因为常规的双线性过滤对深度数据没有意义。