反应离子镀是在离子镀的基础上进行的。在离子镀过程中,在真空室中导入与金属蒸气起反应的气体(如O2、N2、C2H2、CH4等代替Ar或将其掺在Ar中),并用不同方式使金属蒸气和反应气体的分子、原子激活、离化,促进其中的化学反应,在工件表面获得化合物镀层。
理第三章离子镀 1 一、离子镀 定义离子镀(IonPlating，简称IP)是一种在衬底上施加偏压,即在离子对衬底和薄膜发生持续轰击的条件下制备薄膜的PVD技术 在离子镀的过程中，沉积前和沉积过程中的衬底和薄膜表面经受着相当数量的高能离子流和大量的高能中性物质的轰击 离子镀可以被看成是一种混合型的薄膜制备方法它兼...
离子镀就是在镀膜的同时,采用带能离子轰击基片表面和膜层的镀膜技术。离子轰击得目的在于改善膜层的性能。离子镀是镀膜与离子轰击改性同时进行的镀膜过程。 一般流程:无论是蒸镀还是溅射都可以发展成为离子镀。在磁控溅射时,将基片与真空式绝缘,再加上数百伏的负偏压,即有能量为100eV量级的离子向基片轰击,从而实现...
离子镀在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应物沉积在基片上的方法。 其中包括磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀(空心阴极蒸镀法)、多弧离子镀(阴极电弧离子镀)等。 离子镀时,蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力...
真空阴极电弧离子镀(Cathode Vacuum Arc Ion Plating,CVAIP),也叫真空电弧沉积(Vacuum Arc Deposition,VAD)或者电弧离子镀(Arc Ion Plating,AIP)等, 是在电弧放电技术的基础之上发展起来的一种镀膜技术,电弧在真空环境中在靶面进行放电产生等离子体,然后离子以一定的能量沉积到工件表面形成膜层,属于物理气相沉积(PVD)...
离子镀其实是一种表面处理技术,通过把金属离子或者其他物质加速到基材的表面,然后形成一层薄薄的膜。听着有点抽象对吧?没关系,咱们接着往下说,说不定你就能一秒钟明白。 一、物理气相沉积(PVD) 你要说离子镀,PVD可是离子镀家族中的“长辈”。它的名字听起来高大上,其实就是通过物理方法让金属蒸发,蒸发出来的...
离子镀原理是一种利用离子在电场作用下沉积到基体表面形成薄膜的过程。离子镀可以用于在金属、非金属和有机物的表面上镀覆不同材料的薄膜。 离子镀的过程可以分为一下几个步骤: 首先,需要一个离子源,通常使用离子源设备产生离子束。离子源可能是一个离子火花源、离子枪或者离子源发射器,它们可以产生高能离子束。
闭合场非平衡磁控溅射离子镀膜技术(Closed-field Unbalanced Magnetron Sputtering, CFUBMS)是一种新型的磁控溅射技术,它结合了非平衡磁控溅射和离子镀沉积的优点,能够在较低的气压和电压下实现高效的薄膜沉积。相较于传统的磁控溅射技术,闭合场非平衡磁控溅射能够在...
一、离子镀和电镀的原理 离子镀和电镀都是表面处理技术,它们的主要区别在于金属离子的沉积方式不同。 离子镀是通过高能离子束轰击金属表面,使金属原子离开表面形成金属离子,经过凝结后在表面形成均匀的涂层。而电镀则是利用电化学反应在电极表面沉积金属离子。具体来说,将金属板做成阴极,将含有金属离子的溶液...
离子镀是利用离子束高速轰击物体表面,将离子投射到物体表面上形成薄膜的一种表面处理技术,常用于各种材料的表面处理和功能薄膜制备。在离子镀过程中,离子束能够通过调节离子束的能量和注入量来控制形成的薄膜的组成、微观结构和厚度,因此具有高精度、高质量、高效率等显著的优点。 二、离子镀的优点 1.提高产品的性能...