现今，眼镜片镀膜工艺已迈入了真空离子镀的新时代。回溯至1963年，马托克（Mattock）巧妙地运用离子镀技术，为人造卫星打造了金属润滑膜，开启了离子镀技术的先河。这一技术融合了真空热蒸发与溅射的精髓，逐渐演变成为一种革新性的工艺。◆ 离子镀技术的原理 离子镀，作为一种创新的镀膜技术，其核心在于利用真空环境下...
离子镀技术，这一在真空环境中进行的材料革命性工艺，通过气体放电使气体或蒸发物质部分离化。在气体离子或蒸发物质离子的轰击下，蒸发物或其反应物被沉积到基底上。这一技术不仅融合了蒸发镀的高沉积速度与溅射镀的离子轰击清洁表面的特性，更因膜层附着力强、绕射性能优越以及适用材料广泛而备受推崇，从而推动了其迅...
离子镀技术最早由D. M. Mattox于1963年提出并付诸实践的。其原理: 在真空条件下,利用气体放电使气体或被蒸发物质离化,在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用的同时,把蒸发物或其他反应物镀在基片上的工艺。 离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面,使大量的电能在工件表面转换成热能,从而促进了表层组织的扩散作用和化学...
PVD技术包括真空蒸发镀、离子镀和磁控溅射镀等多种类型，每种类型都有其独特的工作原理和适用场景。离子镀技术因其沉积过程和高质量的涂层性能在PVD中占据重要位置。在离子镀中，金属原子在等离子体中沉积，形成高质量的涂层。相较于其他PVD技术，离子镀技术因卓越的性能而在工业生产中广泛应用。离子镀中的关键因素 ...
PVD，即Physical Vapor Deposition，是物理气相沉积的英文缩写。它是一种在真空环境中，通过物理手段使材料沉积在工件表面以形成薄膜的技术。2. PVD镀膜与PVD镀膜机 PVD镀膜技术主要分为真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜三类。相应地，也存在真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机这三种设备。近年来...
离子镀技术包括多种类型，如磁控溅射离子镀、反应离子镀、空心阴极放电离子镀以及多弧离子镀等。不同类型的离子镀适用于不同的应用场景和材料。▣ 离子镀的特点 离子镀技术具有诸多优点。首先，其镀层展现出卓越的附着力和绕镀能力。此外，离子镀的镀层质量优异，表现为组织致密、无针孔、无气泡且厚度均匀。最后，...
真空离子镀钛是一种在真空条件下，通过物理汽化或电离材料源来沉积薄膜的技术。真空离子镀钛技术，也称为物理气相沉积（PVD），是一种在真空环境中进行的技术。其原理是在真空条件下，将固态或液态的材料源经过物理汽化或部分电离，转化为气态原子、分子或离子。这些气态粒子在低压气体的作用下，沉积在基体表面，形成...
一、离子镀膜技术：“轰击 - 沉积” 的动态平衡 离子镀膜机在沉积薄膜的同时，利用氩离子（能量 50-500eV）轰击薄膜表面，实现三大效果：1. 应力调控：通过离子能量调整，可将薄膜应力从张应力（+100MPa）调整为压应力（-50MPa），减少裂纹风险；2. 界面活化：轰击去除表面污染物，使薄膜与基底的附着力提升 3-...
离子镀是一种在真空环境中,利用高压气体放电将镀料蒸发后离子化,沉积在产品表面形成一层镀膜的工艺。这种技术最早出现在上世纪70年代,是一种新型的真空镀膜工艺。离子镀的主要目的是在产品表面镀上一层防腐蚀层,以防止产品生锈。尽管离子镀技术出现的时间不长,但它的应用却非常广泛。它可以用于日常用品、工艺品、航...
多弧离子镀和磁控溅射复合技术均是真空薄膜沉积技术中常用的方法。多弧离子镀是一种利用阳极电弧烧蚀的方法,而磁控溅射是一种利用离子撞击溅射目标材料的方法。二者的基本原理不同,因此在实际应用中存在差异。 二、材料结构 多弧离子镀与磁控溅射的材料结构不同。多弧离子镀...