633:工信部公布光刻机进展,28纳米半导体全套工艺装备自主, 视频播放量 2.7万播放、弹幕量 139、点赞数 1308、投硬币枚数 326、收藏人数 327、转发人数 77, 视频作者 黄滨聊科技, 作者简介 黄滨本人在B站账号。其他搬运号,非本人。分享关于科技、军事、创业等问题的原创观
一种套刻标记及制备方法、曝光区域和半导体制备工艺.pdf,本发明涉及半导体制备技术领域,具体公开了一种套刻标记及制备方法、曝光区域和半导体制备工艺,套刻标记由刻蚀在硅层上的若干沟槽构成;套刻标记的制备方法包括以下步骤:S1、在硅层的上表面形成硬掩膜层;S2、在硬
专利摘要显示,提供了校正套刻和控制半导体工艺的方法以及半导体处理设备。所述校正套刻的方法包括:通过将从第一掩模反射的极紫外光照射到第一层而在多个第一射击区域中形成第一图案;通过将从第二掩模反射的极紫外光照射到第二层而在多个第二射击区域中的每个中形成第二图案;将一对第二射击区域与每个第一射击区域匹...
天准科技:套刻(Overlay)误差量测设备主要用于量测半导体制造工艺中前后叠层之间对准的套刻误差 同花顺(300033)金融研究中心9月12日讯,有投资者向天准科技提问, 公司之前提到过已有光刻对准检验机产品并中标过上海新微半导体采购项目,请问光刻对准检验机载半导体光刻各流程环节中起什么作用?国产替代前景如何?谢谢 公司回...
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三星取得极紫外光曝光装置和方法及制造半导体器件的方法专利，最小化EUV曝光工艺中由反射镜导致的误差以改进套刻误差 金融界2024年4月11日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社取得一项名为“极紫外光曝光装置和方法及制造半导体器件的方法“，授权公告号CN111077739B，申请日期为2019年7月。专利摘要显示，提供...
投资建议:先进光刻机是国产晶圆厂发展先进工艺制造的关键瓶颈,国产光刻机的技术突破有利于未来国内晶圆厂的扩产提速,从而带动整个国产半导体设备行业需求增量。建议关注: 半导体设备:北方华创、中微公司、拓荆科技、中科飞测、精测电子、芯源微、华海清科等; ...
半导体技术 > 机械工业出版社(CMP) > 套装 官网 半导体制造技术 共3册 半导体工程导论+芯片制造 半导体工艺与设备+集成电路制造工艺与工程应用 纳米集成电路制造工艺 光刻机半导体器件工作原理书籍 机械工业出版社官方旗舰店 套装 官网 半导体制造技术 共3册 半导体工程导论+芯片制造... ...
•扩展光刻胶和衬底的材料范围,打破传统光刻工艺的限制 •一致的、高质量的曝光结果,零培训、零基础即可操作 •无需超净间、任何地点都可以光刻;低功耗、可选电池供电 •搭建即可运行,牢固的机械结构和光学器件,无需额外维护和校准 •应用领域: 半导体、微流控、生物芯片、光学器件,及更多应用领域 ...
在当今半导体行业,随着工艺技术的不断推陈出新,特别是22纳米及以下技术节点的成熟,套刻误差的测量已成为亟待解决的关键挑战。在这种背景下,东方晶源新推出的PanOVL套刻标记优化工具引起了业内的广泛关注,这是一个旨在提升晶圆制造精度的重要工具。 PanOVL基于衍射原理的DBO测量技术,能够有效应对多重图形技术下的套刻...