逻辑器件:随着国际上先进芯片线宽向7nm、5nm及更先进工艺的方向升级,受光刻机波长限制,芯片制造过程中需要结合刻蚀和薄膜设备采用多重模板工艺。(1)刻蚀需求倍增:在7nm及以下节点,刻蚀工艺的精确性和一致性直接影响到芯片的性能和良品率。根据中微公司公告披露,逻辑器件刻蚀次数随先进制程升级而增多,5nm先进制程逻辑...
公司亮点:主要研发生产半导体芯片制造相关设备,主要产品为电子工艺装备和电子元器件。 (2)深南电路 公司亮点:印制电路板行业全球前十,国内封装基板领域的先行者。 (3)长电科技 公司亮点:国内半导体第一大封装生产基地,著名的晶体管和集成电路制造商,产品质量处于国内领先水平。 (4)通富微电 公司亮点:已经具备第三代...
原子层沉积(ALD)工艺被认为是逻辑和存储半导体器件微缩化的重要推动力。过去20年,ALD工艺及设备已经广泛应用于逻辑和存储器件的大批量制造,不断推动诸如动态随机存取存储器(DRAM)、先进的鳍式场效应晶体管(FinFET)以及栅极环绕晶体管等器件性能的改进与创新。随着摩尔定律放缓,ALD工艺逐渐渗透到更多应用领域,如超越摩尔...
半导体设备国产化 专用设备制造业 员工 MEMS刻蚀技术 | (MEMS)是一种将微小机械元件、传感器、执行器和微电子部件集成到一个微小的芯片或晶片上的技术。 刻蚀技术在MEMS制造中扮演着关键角色,并在多个方面得到应用: 1、微结构制造:MEMS器件通常包含微小而精密的结构,例如微梁、微柱、微孔等,这些结构的制造需要...
半导体设备国产化 专用设备制造业 员工 电子束光刻技术工艺 | 电子束光刻技术是一种先进的微纳电子器件制造技术,它利用电子束曝光半导体材料的光敏剂上,以实现微细图形的传递。这项技术通常应用于芯片制造,包括集成电路(IC)和其他微纳米电子器件。
公司回答表示,您好,公司的主营业务主要包括高纯工艺系统、半导体湿法清洗设备、光传感应用及相关光学元器件的研发、生产和销售,以上业务都是国家重点扶持与发展的新兴领域,受益于国产替代的政策推动,市场前景广阔。公司目前在手订单饱满,具体数据将在年度报告中予以披露。
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微型传感器 174基于半导体工艺技术的新一代器件,用于标准半导体工艺兼容的材料,应用新的工作机制和物化效应,用维系加工技术设备制成。___B. 在环诊断
题目微传感器是基于半导体工艺技术的新一代器件,用与标准半导体工艺兼容的材料,应用新的工作机制和物化效应,用微细加工技术设备制成,微传感器也称为( ) A. 硅传感器 B. 智能传感器 C. 。晶体传感器 D. 微机传感器 相关知识点: 试题来源: 解析 A