产品型号:CY-PECVD100-1200-Q 产品厂商:成越科仪 产品文档: 简单介绍: CVD气相沉积系统广泛应用于材料科学和工程领域,用于制备各种功能性薄膜,如金属薄膜、氧化物薄膜、氮化物薄膜、碳纳米管等。它在半导体、光电子、能源、生物医学等领域都有重要应用 详情介绍: ...
牛津仪器镀膜机PlasmaPro 100 PECVD适用于Nano Material项目,参考多项行业标准Oxford Instruments。可以检测Nano Material等样品。可应用于纳米材料行业领域。 纳米材料生长和表征 System 100 -等离子刻蚀与沉积设备 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用...
型号 Plasmalab System100 英国Oxford等离子体增强化学气相沉积 Plasmalab System100 PECVD技术指标:·可蒸发不同厚度的SiO2 和SiNx薄膜,广泛应用于物理,生物,化学,材料,电子等领域。·沉积薄膜种类:SiO2,SiNx,SiONx·基底温度:小于400℃·薄膜均匀性:±3%(4英寸)·装片:小于6英寸的任意规格的样品若干原理:·在保持...
PlasmaPro 100 PECVD delivers excellent conformal deposition and low particle generation due to electrode temperature uniformity and shower head design in the electrode, allowing RF energy to produce the plasma. The high energy reactive species of plasma offers high deposition rates to achieve the desired...
高密度等离子体和低压沉积,兼容最大200mm的晶圆尺寸,电阻加热电极的温度范围为400°C至1200°C,由于电极温度均匀性和电极中的喷头设计,PlasmaPro100 PECVD可提供出色的保形沉积和低颗粒生成,从而允许射频能量产生等离子体。 科研实验应用:光伏器件研究实验室、半导体器件研究实验室、显示器件研究实验室、纳米技术研究实验...
小草半导体设备介绍 设备类型:PECVD 设备型号:AST Cede-100L 设备状态:产线热机欢迎来电咨询~ #半导体设备 #PECVD - 小草半导体于20250122发布在抖音,已经收获了6个喜欢,来抖音,记录美好生活!
产能规划上，2024年底通威TOPCon电池产能将超100GW，将成为行业产能最多的企业之一。如果说晶科是LPCVD技术路线的代表企业，那无疑通威就是把PECVD成功推向产业化的领军企业。技术是外行看热闹，内行看门道。从中国光伏行业协会评选的《2023 年度光伏行业创新成果推介目录》来看，通威“高效硅钝化接触太阳电池（TNC）技术...
PECVD 设备(Plasma enhanced chemical vapor deposition) 所在单位: 电子科技大学 品牌/型号: 沈阳天成真空技术所,自行设计外协加工|| ||进室出室真空度≤5Pa RF功率可调范围0-500W 所在地区: 四川省 仪器说明: 我们目前尚未与电子科技大学提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位...
PlasmaPro 100 PECVD offers outstanding low particle generation and conformal deposition as a result of the electrode temperature uniformity and shower head design in the electrode, thereby enabling RF energy to produce the plasma. High deposition rates have been provided by the high-energy reactive spe...