PECVD的全称是等离子体增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)。
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编写程序实现下述逻辑 (1) 计算11的阶乘 (2) 声明一个二维数组,给其赋值成为一个对角线为1,其他元素为0的n阶矩阵,并将其各元素显示出来 (3) 计算500到800区间素数的个数cnt,并按所要求素数的值从大到小的顺序排列,再计算其间隔加、减之和,即第一个素数-第二个素数+第三个素数-第四个素数+第五个素数...
plasma enhanced chemical vapor deposition
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