FPA-3030i5+i-line步进器配备1:5缩小放大率投影镜头,可在22mmx22mm视场内提供NA0.63成像。350nm或更小的FPA-3030i5+分辨率将满足或超过大多数(如果不是全部)物联网和MEMS应用的量产成像要求。 FPA-3030i5+步进器享有佳能长期畅销的FPA-3000平台步进器的高可靠性 自1994年推出FPA-3000i4以来,FPA-3000平台步进器...
佳能 [1]将在2021年3月上旬发售半导体光刻机新产品—i线 [2]步进式光刻机“FPA-3030i5a”。该产品支持化合物半导体等器件的生产制造,同时降低了半导体制造中重要的总成本指标“拥有成本”(Cost of Ownership,以下简称“CoO”)。 FPA-3030i5a 新产品是面向8英寸及以下尺寸小型基板的半导体光刻机。不仅是硅晶圆...
此外,与传统机型“FPA-3030i5+”(2012年6月发售)相比,该产品的硬件和软件都进行了更新升级,实现了更低的成本开支。
FPA-3030i5a 可以配备一个处理系统,可以选择从 50 毫米(2 英寸)到 200 毫米(8 英寸)的晶圆直径,以支持各种不同的化合物半导体晶圆尺寸和材料。 采用增强稳健性的对齐范围 FPA-3030i5a 采用离轴对准范围,通过不通过投影镜头的光路测量晶圆对准标记,可以使用广泛的对准照明波长。并且通过使用暗场进行对准测量可以增强...
日本的佳能曾经是最大的光刻机制造商之一,后来逐渐衰微。但佳能并没有放弃光刻机业务。据日经中文网报道,佳能将于2021年3月发售新型光刻机“FPA-3030i5a”,用来抢占高功能半导体市场。 佳能光刻机(图源:日经中文网) 时隔7年,佳能更新了面向小型基板的半导体光刻机,该设备使用波长为365纳米的“i线”光源,支持直...
Canon Inc. announced today the launch in Japan of the FPA-3030i5a, the newest entry in the company’s lineup of i-line1 stepper semiconductor lithography systems that support the manufacture of such devices as compound semiconductors and reduce cost of
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