FIB-SEM最常用的技术之一是TEM样品制备。FIB-SEM是实现这一目的的理想工具,可以选择试样上的特定区域,如界面或颗粒,然后制备厚度小于100 nm 的该特征的TEM截面。 图5 FIB-SEM制备TEM样品 1.3:原子探针 (APT) 样品制备 FIB可在精确选定的位置制备APT样品。整个过程与TEM样品制备相似。在 TEM样品制备中,需要制作电...
FIB-SEM技术是一种在科学研究和工业领域发挥重要作用的先进材料分析和微纳加工手段。该技术利用聚焦的离子束进行样品溅射刻蚀,并通过扫描电子束对样品表面进行成像,能够实现纳米级别的加工和成像,以及构建样品的三维结构。 FIB-SEM技术在半导体行业用于线路修复和故障分析,在材料...
聚焦离子/电子双束扫描电镜(fib-sem) 更新时间:2024年12月20日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 实力供应商 已核验企业 在线交易 安心购 查看详情 ￥1000.00万/件 上海 日立双束聚焦离子束系统NX5000 高性能FIB-SEM系统Ethos 在线交易 日立品牌 上海庄润国际贸易有限公司 3年 查看详情 ￥1000.00万...
FIB-SEM制备TEM薄片流程 图2 利用FIB-SEM制备透射电镜薄片流程 01 利用 SEM 分析找到感兴趣的区域，表面尽量平整。选定目标微区( 长×宽约为 15×2 μm) ，并在该微区内选定一特征点置于画面中心，倾转样品台至样品表面与离子束垂直( ～ 54°) 。为了避免在此过程中离子束对样品表面的“误伤”，通常还需...
以下是三台高性能的聚焦离子束扫描电子显微镜(FIB-SEM),型号分别为Zeiss Auriga Compact、FEI Helios Nanolab 450S和FEI Scios2。这些设备均配备了先进的X-Max大面积晶体电制冷能谱探头,专为轻元素分析设计,测试条件可达到≤127eV (Mn Ka 20,000cps),覆盖元素范围从Be4至Pu94,适用于Si晶体,活区面积达20mm...
TESCAN-AMBER GMH FIB-SEM系统是一款功能强大、应用广泛的纳米分析设备，适用于各种高精度材料科学研究和生命科学分析需求。技术参数：样品室尺寸:宽度: 340mm 深度: 315mm 离子束:分辨率: 2.5nm@ 30KeV 离子束能量范围: 0.5-30 KeV 放大倍数: 30-3*105 X 探针电流: 1pA-100nA 电子束:分辨率: 1.5nm@...
FIB-SEM扫描电镜下观察支架镀层截面形貌，镀层界限明显、结构及晶格形貌清晰，尺寸测量准确。此款支架在常规镀镍层上方镀铜，普通制样方法极其容易忽略此层结构，轻则造成判断失误，重则造成责任纠纷，经济损失！FIB-SEM扫描电镜下观察支架镀层截面形貌。此款支架在镀铜层下方镀有约30纳米的镍层，在FIB-SEM下依然清晰可...
FIB-SEM原理 FIB-SEM双束系统就是把FIB系统和传统扫描电子显微系统按一定的角度同时装在一个装置上，把试样调节到共心高度位置。这就使得试验时可通过转动试样台使试样表面与电子束或者离子束垂直，从而最终达到对电子束进行实时观测和对离子束进行切割或者微加工等效果。在常见的双束FIB-SEM系统中：电子束垂直于样品...
学术界和工业界的科学家和工程师不断面临着需要对各种样品和材料进行高度局部表征的新挑战。提高这些材料质量的持续动力意味着常常需要纳米级的结构和组分信息。DualBeam 聚焦离子束扫描电子显微镜 (FIB-SEM) 仪器通过将 FIB 的精确样品修饰与 SEM 的高分辨率成像相结合,正好完全这类数据。
FIB采用高强度聚焦离子束纳米加工材料，并结合扫描电镜（SEM）和其他高倍数电子显微镜进行实时观测，已成为纳米级分析，制作的主要手段。02 主要应用 用途及功能 定点剖面形貌和成分表征；TEM样品的制备；微纳结构的处理；芯片线路的重构；切片式的三维重构；材料的传递；三维原子探针样品的制备；适用领域 结构分析、材料...