网络释义 1. 直流电浆化学气相沉积 1.3.2直流电浆化学气相沉积(DC-PECVD) 17 1.3.3 微波电浆化学气相沉积(MPECVD) 18 1.3.4 小结 19 1.4 表面预处理机 … etds.lib.ncku.edu.tw|基于5个网页
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Particularly, plasma enhanced CVD (PECVD) favours a parallel growth of the CNTs to the electric field of the plasma sheath, which is of main interest in most of the applications mentioned above. In the present work, a comparative study between radiofrequency (RF) and pulsed-DC plasma sources...
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一、PECVD非晶硅的制备技术 PECVD非晶硅是一种通过等离子体化学反应在基板上沉积非晶硅薄膜的技术。该技术的基本原理是将硅源气体(如SiH4)和氢气(H2)混合后,通过高频电场激发产生等离子体,使气体分子发生化学反应,生成非晶硅薄膜。PECVD非晶硅具有...
pecvd 直流偏压高dc bias 高的原因 PECVD(等离子体增强化学气相沉积)中高直流偏压(dc bias)的原因有以下几点: 1. 提高沉积速率:高直流偏压可以增加等离子体中的离子能量,使沉积的粒子具有更高的动能,从而增加了沉积速率。 2. 提高沉积质量:高直流偏压可以增加沉积表面的能量,从而有助于表面活化和净化,减少沉积过程...
PECVD的特点 1. 低沉积温度:这有助于减少因膜与基底材料线膨胀系数不匹配导致的内部应力。 2. 高沉积速率:尤其是在低温条件下,有利于获得非晶态和微晶态薄膜。 3. 减少热损伤:低温工艺减少了热损伤,降低了膜层与基底材料之间的互扩散和反应,或减少高温对器件电学性质的影响。
PECVD技术是一种利用等离子体增强化学气相沉积法制备薄膜的技术。在光伏领域中,PECVD技术被广泛应用于制备光伏用薄膜,尤其是异质结光伏材料中的半导体薄膜材料,如硅薄膜、氮化硅薄膜等。PECVD技术制备的光伏薄膜具有较高的光电转换效率、稳定性好、成本低等优点,因此在光伏产业中得到了广泛应用。 二、PECVD技术的优势 ...
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PECVD原理--等离子体增强化学气相沉积技术基础 等离子体增强化学气相沉积技术基础 §1.1等离子体概论 §1.1.1等离子体的基本概念和性质 近代科学研究的结果表明，物质除了具有固态、液态和气态的这三种早为人们熟悉的形态之外，在一定的条件下，还可能具有更高能量的第四种形态 ——等离子体状态。例如通过加热、放电等...