【技术特点】-- GSL-PECVD-300化学气相沉积 产品简介:GSL-PECVD-300化学气相沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅薄膜太阳电池器件,可广泛应用于...
晶圆尺寸 300mm 工艺 PETEOS 类型 CVD 加热器材料 HA12陶瓷 产品名称 等离子化学气相沉积PECVD设备 发货地 青岛 可售卖地 全国 品牌 AMAT 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议...
晶圆尺寸 300mm 类型 CVD 工艺流程 PECVD Equipment for Barrier 品牌 ASM 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,则最终以...
郑州成越科学仪器有限公司主要致力于“卷对卷PECVD石墨烯制备设备柔性透明电极连续生产 CY-OTF-1200X-III-PE300-RR”的生产销售。多年的“卷对卷PECVD石墨烯制备设备柔性透明电极连续生产 CY-OTF-1200X-III-PE300-RR”生产与销售的经验,与各行业新老用户建立了稳定的合作关
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M82300-8/UM型 PECVD镀膜设备-湖南红太阳光电科技有限公司-PECVD即等离子体增强化学气相淀积设备,是利用高频电源辉光放电产生等离子对化学气相沉积过程施加影响的技术。 M82300-12/UM型 PECVD设备主要用于TOPCON和PERC电池正背面氮化硅减反射钝化薄膜的生长,也可以用于PER
M82300-3/UM型PECVD镀膜设备 核心卖点 产品简介 PECVD镀膜设备即等离子体增强化学气相淀积设备,是利用高频电源辉光放电产生等离子体对化学气相沉积过程施加影响的技术。 M82300-3/UM型五管PECVD设备既可用于淀积电池片正面氧化硅减反射膜,也可用于淀积电池片背面钝化膜。 产品特点 硅片尺寸可从166mm兼容到220...
S7-300PLC控制系统以及现场总线在PECVD中的研究
我们所用为Roth&Rau生产的型号为SiNAXXL的PECVD，为利用SiH4和NH3在载盘上进行SiN连续沉积镀膜的系统。1 Addyourtextinhere机台结构、功能介绍 PECVD共分五个chamber，载入腔，加热腔，反应腔，冷却腔，载出腔；载入腔与加热腔以及冷却腔与载出腔之间有门阀，加热腔、反应腔和冷却腔是连通的；Wafer在ULC载出后，...
答案解析 查看更多优质解析 解答一 举报 PECVD--等离子体化学气相沉积法 为了使化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD). 实验机理: 辉光放电等离子体中:电子密度高 (109~... 解析看不懂?免费查看同类题视频解析查看解答 ...