SSMB-EUV光源做光刻机的优点是：仅仅三块反射镜（因为SSMB-EUV光源比LPP-EUV光源要纯净），镜片面积要求也小得多，只需十分之一。优点显然，光源质量比ASML的EUV光刻机强，整机开发难度下降不少，镜片的要求也降低了。这样就可以很好地解决光源小型化的问题了。清华大学的SSMB-EUV方案通俗地讲就是把光刻机大型化...
如果能够将SSMB光源技术成功应用于EUV光刻机，那么我国在光刻机领域就有望实现革命性的弯道超车，从而缩小与国际先进水平的差距，提升我国芯片产业的竞争力和安全性。
中国有没有可能突破这一困境，实现光刻机的自主研发和制造。近日，有一项来自清华大学的技术突破引起了广泛关注，这项技术就是SSMB-EUV方案，即利用高能加速器产生极紫外光源，驱动多台光刻机同时工作，实现高效率、低成本、高精度的芯片制造。这项技术有望让中国光刻机在未来实现弯道超车，甚至超越ASML。SSMB-EUV方...
而清华大学的SSMB-EUV光源，输出功率高达10 W，相当于ASML公司250 W EUV光源的四十倍以上，可以一次为几十台光刻设备提供电源，相当于一家大规模生产EUV光刻机的厂家。有人说，这不是一台光刻机，而是一台光刻炮！这种巨型设备是通过高频微波发射出一条数百纳米长的电子束。电子束在一个线性加速器空腔内被加速...
HEPS项目,与清华大学的SSMB-EUV不是同一件事儿。这期视频是在宾馆录制的。之所以这么着急,主要是我觉得这事儿还是蛮重要的,似乎需要尽快给大家说一说。
“SSMB光源的潜在应用之一是作为未来EUV光刻机的光源,这是国际社会高度关注清华大学SSMB研究的重要原因。”#半导体#麒麟9000s芯片#华为#光刻机#清华大学 2190 326 166 49 发布时间:2023-09-13 07:36 全部评论 大家都在搜: 凯文 ... 如果是真的,那清华大学终于做点像样的事了。
大功率EUV光源是EUV光刻机的核心，光刻机巨头ASML采用的是高能脉冲激光轰击液态锡靶，形成等离子体然后产生波长13.5nm的EUV光源，功率约250瓦。而随着芯片工艺节点不断缩小，对EUV光源功率的要求将不断提升，达到千瓦量级。唐传祥教授表示：“基于SSMB的EUV光源有望实现更大的平均功率，并具备向更短波长扩展的潜力。
清华大学的这个SSMB-EUV光源,功率达到了10千瓦,是ASML EUV光源250瓦功率的40倍,能够同时支持数十台光刻机,换句话说,一个大型的EUV光刻机工厂出现了。想象那个画面,都挺美好的。对此,有网友评论的非常有趣,由步枪变成了机关枪,还有网友说这哪是光刻机,这是光刻炮啊!
近日,清华大学研发成功一种全新极紫外(EUV)光源技术“SSMB-EUV”,实现了电子束光源的瓦特级化和工业化应用。 SSMB-EUV光源的应用将可支持数十台光刻机同时工作,从根本上解决目前EUV光源功率不足的瓶颈,实现半导体制造的大规模化 - 深圳智勤芯科技于20230915发布在抖音,已经
清华大学SSMB团队的研究方向主要集中在稳态微聚束EUV光源的研发上。这一技术有望为EUV光刻机提供新的技术路线,解决当前EUV光源功率低、波长难以进一步缩短等瓶颈问题。团队通过深入的理论分析和数值模拟,不断优化SSMB光源的设计方案,并在实验中取得了重要突破。 2021年2月24日,清华大学SSMB...