中国有没有可能突破这一困境，实现光刻机的自主研发和制造。近日，有一项来自清华大学的技术突破引起了广泛关注，这项技术就是SSMB-EUV方案，即利用高能加速器产生极紫外光源，驱动多台光刻机同时工作，实现高效率、低成本、高精度的芯片制造。这项技术有望让中国光刻机在未来实现弯道超车，甚至超越ASML。SSMB-EUV方...
因此,清华大学工程物理系的唐传祥教授研究组与国际合作团队共同研发了SSMB-EUV方案,旨在解决光刻机光源的技术瓶颈,为国产光刻机在全球市场上的竞争力奠定坚实基础。 清华大学光刻机方案概述 清华大学的SSMB-EUV方案,全称为稳态微聚束加速器光源(Steady State Microbunching Accelerator S...
例如,清华大学已向国家发改委提交了SSMB EUV光源项目的建议书,旨在争取国家层面的支持和资金投入。同时,团队还与雄安新区等地方政府签订了合作意向书,共同推动SSMB项目的落地实施。 ssmb团队的发展前景与未来规划 清华大学SSMB团队的发展前景广阔。随着半导体制造业的快速发展和EUV光刻技术的...
清华大学SSMB-EU方案 SSMB-EUV光源做光刻机的优点是：仅仅三块反射镜（因为SSMB-EUV光源比LPP-EUV光源要纯净），镜片面积要求也小得多，只需十分之一。优点显然，光源质量比ASML的EUV光刻机强，整机开发难度下降不少，镜片的要求也降低了。这样就可以很好地解决光源小型化的问题了。清华大学的SSMB-EUV方案通俗地...
而且相比传统的光刻机而言，清华大学这种SSMB光源技术有很大的优势，就是它可以实行工厂化的量产，由中心工厂统一供应光源，各个芯片厂家可以根据自己的工艺制成采取不同的光源。最关键的是这种SSMB光源比目前的EUV刻机光源更先进，它不仅可以批量生产，最关键的是它的波长有可能比13.5纳米更小，未来是突破EUV光刻机...
在当前局限性之下，清华大学提出的SSMB-EUV光源方案展现出了巨大的潜力和优势。该方案以大型电子加速器为基础，将加速器的同步辐射与自由电子激光结合，产生了单色性极好的EUV光。相对于现有技术，这种方案的优势明显。首先，SSMB光源方案能够产生超过10kW的辐射功率，是目前光刻机所采用光源的20倍以上，有效提升了光刻...
SSMB技术有望成为一种新型的EUV光源技术，为EUV光刻机提供新的解决方案。根据清华大学教授表示，“SSMB技术可以产生高强度、窄带宽、相干的同步辐射，在激光波长及其高次谐波上都有辐射出现。其中第13次谐波正好对应于EUV波段。”这意味着SSMB技术可以利用现有的环形加速器和激光器，来产生符合EUV光刻机要求的EUV光源，...
据了解，所谓清华大学的EUV光刻机替代方案，是清华大学在多年前的一项光源技术研究这项研究报告，是对一种新型的粒子加速器光源“稳态微聚束”的原理验证。在验证的过程中发现，稳态微聚束（SSMB）理论上可以产生芯片制造过程所需的极紫外光。不过，正如国内专家项立刚所说的，不相信什么大学的方案，大学做产业一般都...
然而，清华大学带来的SSMB-EUV光源方案却以一种全新的思路挑战着这个问题。通过将大型电子加速器与自由电子激光相结合，他们成功地实现了单色性极好的EUV极紫外光。这种新的光源方案不再受限于小型化，而将光刻机光源看作基础设施，以不同制程的需求为导向，提供了高效率和多样性的解决方案。具体来说，SSMB-EUV光源...
超越极限：SSMB-EUV的崭露头角 清华大学的SSMB-EUV光源方案，正是一场彻底的技术颠覆。它摒弃了小型化的限制，采用了更大胆的构想。通过将加速器的同步辐射与自由电子激光相结合，清华团队成功输出了单色性极好的EUV极紫外光，功率更是超过了1000W，是传统锡蒸汽光源的两倍。这一创新不仅打破了光刻机光源的技术瓶颈...