化学气相沉积(CVD):挥发性化合物材料与其它气体进行化学反应,生成非挥发性固体,沉积于基板之上的过程。___PVD特点:物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐饰、装饰...
化学气相沉积法,英文名称为Chemical Vapor Deposition,简称CVD法,是指将含碳元素的混合气体置于一定条件下,气体中的碳原子按金刚石的结构在预先放置在生长舱中的种晶上沉淀,不断长大后形成的等轴晶系晶质体,简称为CVD培育钻石[2]。 通俗点来讲,CVD法培育钻石就像种粮食,需要“种子”与“养料”,一颗小小的天然钻...
1化学气相沉积法生产晶体、晶体薄膜 化学气相沉积法不但可以对晶体或者晶体薄膜性能的改善有所帮助，而且也可以生产出很多别的手段无法制备出的一些晶体。化学气相沉积法最常见的使用方式是在某个晶体衬底上生成新的外延单晶层，最开始它是用于制备硅的，后来又制备出了外延化合物半导体层。它在金属单晶薄膜的制备上也...
化学气相沉积和热蒸发法的区别是什么?看文献里制备ZnO纳米线,不管是热蒸发还是CVD,都是整一个水平管式炉,陶瓷舟里一边放前躯体一边放Si片,最终都是在Si片上长出ZnO纳米线.难道二者是同一种方法? 扫码下载作业帮搜索答疑一搜即得 答案解析 查看更多优质解析解答一 举报...
化学气相沉积(CVD):挥发性化合物材料与其它气体进行化学反应,生成非挥发性固体,沉积于基板之上的过程。 ___ PVD特点:物理气相沉积技术工艺过程简单,对环境改善,无污染,耗材少,成膜均匀致密,与基体的结合力强。该技术广泛应用于航空航天、电子、光学、机械、建筑、轻工、冶金、材料等领域,可制备具有耐磨、耐腐饰、装...
化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition 简称CVD) 是利用气态或蒸汽态的物质在气相或气固界面上发生反应生成固态沉积物的过程。过程 化学气相沉积过程分为三个重要阶段：反应气体向基体表面扩散、反应气体吸附于基体表面、在基体表面上发生化学反应形成固态沉积物及产生的气相副产物脱离基体表面。最常见的化学气相沉积反应...