G-CVD石墨烯化学气相沉积系统由厦门烯成新材料科技有限公司与国内顶尖石墨烯研究机构合作开发,提供完整的石墨烯生长系统,同时提供石墨烯转移及测试的解决方案。 G-CVD系统兼容真空及常压两种主流的生长模式,采用计算机自动控制,系统内置了多种制备石墨烯的生长参数,用户只需简单操作,就可以轻松的制备出高质量的石墨烯。...
G-CVD石墨烯化学气相沉积系统由厦门烯成新材料科技有限公司与国内顶尖石墨烯研究机构合作开发,提供完整的石墨烯生长系统,同时提供石墨烯转移及测试的解决方案。 G-CVD系统兼容真空及常压两种主流的生长模式,采用计算机自动控制,系统内置了多种制备石墨烯的生长参数,用户只需简单操作,就可以轻松的制备出高质量的石墨烯。...
DH-GCVD 系列 石墨烯化学气相沉积系统 DH-GCVD 系统兼容真空及常压两种主流的生长模式,可采用计算机自动控制,工作在常压气氛或真空条件,通过控制,可以在 10 -3 Torr—760Torr 之间的任意气压下进行石墨烯的生长。既可以生长出六边形的石墨烯单晶,也可以生长出花瓣状的石墨烯单晶。整个石墨烯生长过程的重要参数由计算...