采用等离子喷涂物理气相沉积(PS-PVD)技术,在5个喷涂距离内喷涂成团聚的Zr O_2-7wt%Y_2o_3(7ysz)粉末,制备了热障涂层。采用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和X射线衍射(XRD)分析了五种涂层的显微结构和相组成。此外,利用OES诊断研究了7YSZ粉末蒸汽浓度随喷雾距离的变化规律。最后,介绍了气相沉积涂层的三种不同...
物理气相沉积是一种将气态物质沉积到固体表面的涂层技术,其特点是在真空或低压气氛下进行。等离子喷涂的主要涂层成分以及成膜技术都与物理气相沉积相近,而且其涂层形成过程中存在从气态向固态的转化,因此可以将等离子喷涂归属到物理气相沉积的范畴。但同时需要注意的是,等离子喷涂和其他物理气相沉...
等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD) 设备图片 【仪器简介】:生产商:瑞士Oerlikon Metco,可实现粉末气、液、固单相或多相沉积,用于制备独特结构、性能优异的先进涂层,例如高性能热/环境障涂层、电解质、高温抗氧化涂层等。 【仪器参数】:(1)配备低压等离子喷枪(F4VB)和大功率离子喷枪(O3CP) (2)多组分工作气体,如A...
等离子喷涂物理气相沉积(Plasma Spray Physical Vapor Deposition,PSPVD)是一种先进的表面涂层技术,可用于制造高效太阳能电池、光催化器件等。近年来,PSPVD技术取得了显著的进展。本文将介绍PSPVD的基本原理、优缺点以及最新研究进展。 一、PSPVD的基本原理 PSPVD通过高温等离子体将气相物质加热至熔融状态,然后将其喷...
通过等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)技术在3种不同工艺参数下制备7YSZ热障涂层.采用XRD和SEM分析涂层的相结构和微观组织,利用激光脉冲法测量涂层不同温度下的热导率.结果表明:通过调整工艺参数中电流的大小和等离子气体成分,可以制备截面呈柱状,致密层状和柱-颗粒状混合组织结构,表面呈"菜花"状或起伏的多峰状的YS...
等离子喷涂物理气相沉积(PS-PVD)最早是由瑞士苏尔寿美科公司开发的一种气相沉积涂层的低压等离子喷涂技术。PS-PVD是在非常成熟的低压等离子喷涂技术(LPPS)的基础上进行研发。与传统真空等离子喷涂(VPS)和低压等离子喷涂(LPPS)相比,此工艺在低于2 mbar的环境下使用高能等离子喷枪进行工作。在此工况条件下产生的超常规等离...
涂装设备 设备名称 PVD (物理气相沉积) 真空等离子喷涂机 真空室尺寸 可以按照客户的要求进行设计 涂层方法 电弧沉积 颜色 金色,银色,蓝色,黑色 泄漏率 精确制作的工作腔,泄漏率小于0.5 Pa/h 阴极电弧靶 直径100 x40(mm),它也可以定制。 定制机器 可根据客户的图纸或建议。 保修后服务 视频技术支持 展开 交货...
目前,航空发动机用热障涂层制备技术主要包括大气等离子体喷涂、电子束气相沉积和等离子体喷涂-物理气相沉积技术,各涂层的微观组织结构如图4-1所示。 相较于另两种技术,等离子体喷涂-物理气相沉积技术可以更高效的制备热导率低、结合强度高、抗热震性好的羽毛柱状结构热障涂层,并具有良好的绕镀性,可以在外形复杂的工件...
摘要 采用等离子喷涂–物理气相沉积(PS-PVD)以团聚烧结的ZrO2-7wt%Y2O3(7YSZ)为原料,在850℃基体温度下制备了具有柱状结构的热障涂层,并通过场发射–扫描电镜(FE-SEM)分析了柱状涂层的显微结构。此外...展开更多 Using agglomerated and sintered ZrO2-7wt%Y203 (7YSZ) powders as raw materials, columnar ...
摘要:采用等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)在高温合金基体上沉积7YSZ热障涂层,通过分步沉积实验、径向和轴向的涂层结构分布实验探讨了涂层中各种粒子的种类、形成原因、对涂层结构的影响及射流中的粒子分布。研究表明:PS-PVD实际上是一种以气相沉积为主,多相混合的沉积方式。涂层的沉积过程中,气相沉积是柱状晶形成的...