采用等离子喷涂物理气相沉积(PS-PVD)技术,在5个喷涂距离内喷涂成团聚的Zr O_2-7wt%Y_2o_3(7ysz)粉末,制备了热障涂层。采用场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和X射线衍射(XRD)分析了五种涂层的显微结构和相组成。此外,利用OES诊断研究了7YSZ粉末蒸汽浓度随喷雾距离的变化规律。最后,介绍了气相沉积涂层的三种不同...
等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD) 设备图片 【仪器简介】:生产商:瑞士Oerlikon Metco,可实现粉末气、液、固单相或多相沉积,用于制备独特结构、性能优异的先进涂层,例如高性能热/环境障涂层、电解质、高温抗氧化涂层等。 【仪器参数】:(1)配备低压等离子喷枪(F4VB)和大功率离子喷枪(O3CP) (2)多组分工作气体,如A...
物理气相沉积是一种将气态物质沉积到固体表面的涂层技术,其特点是在真空或低压气氛下进行。等离子喷涂的主要涂层成分以及成膜技术都与物理气相沉积相近,而且其涂层形成过程中存在从气态向固态的转化,因此可以将等离子喷涂归属到物理气相沉积的范畴。但同时需要注意的是,等离子喷涂和其他物理气相沉积...
等离子喷涂物理气相沉积(Plasma Spray Physical Vapor Deposition,PSPVD)是一种先进的表面涂层技术,可用于制造高效太阳能电池、光催化器件等。近年来,PSPVD技术取得了显著的进展。本文将介绍PSPVD的基本原理、优缺点以及最新研究进展。 一、PSPVD的基本原理 PSPVD通过高温等离子体将气相物质加热至熔融状态,然后将其喷...
目前,航空发动机用热障涂层制备技术主要包括大气等离子体喷涂、电子束气相沉积和等离子体喷涂-物理气相沉积技术,各涂层的微观组织结构如图4-1所示。 相较于另两种技术,等离子体喷涂-物理气相沉积技术可以更高效的制备热导率低、结合强度高、抗热震性好的羽毛柱状结构热障涂层,并具有良好的绕镀性,可以在外形复杂的工件...
Key words: PS-PVD; coating growth; non-/spontaneous nucleation; spectral diagnosis 等离子喷涂物理气相沉积(Plasma Spray-Physical 采用PS-PVD(Multicoat™ PS-PVD system, Oerlikon- Vapor Deposition, PS-PVD)是20 世纪末基于低压等 Metco)工艺在抛光基体上沉积陶瓷层。喷涂所用粉 离子喷涂(Low Prossure...
低（<30MPa ）.EB-PVD 通过电子束加热蒸发涂层材料，加热后的材料以气相原子状态为主进行沉积生长，制备出的涂层在微观下呈现较为均匀的柱状结 构，但热导率较高[1，4]，且隔热性能较差.近年来，等离子喷涂-物理气相沉积（PS-PVD ）已成为新兴发展的热障涂层制备技术，使用该技术制备热障涂层并应用于航空涡轮...
等离子喷涂是一种利用等离子体喷涂材料的表面处理技术。本研究采用了等离子喷涂技术来制备涂层样品,并对涂层的成分和结构进行分析。 2.2物理气相沉积技术。 物理气相沉积技术是一种利用物理气相反应来形成薄膜或涂层的技术。本研究还采用了物理气相沉积技术来制备涂层样品,并对其性能进行测试。 3.研究成果与分析。 3.1多尺...
等离子喷涂物理气相沉积(PS-PVD)最早是由瑞士苏尔寿美科公司开发的一种气相沉积涂层的低压等离子喷涂技术。PS-PVD是在非常成熟的低压等离子喷涂技术(LPPS)的基础上进行研发。与传统真空等离子喷涂(VPS)和低压等离子喷涂(LPPS)相比,此工艺在低于2 mbar的环境下使用高能等离子喷枪进行工作。在此工况条件下产生的超常规等离...
多联体涡轮导向叶片等离子物理气相沉积涂层的喷涂方法专利信息由爱企查专利频道提供,多联体涡轮导向叶片等离子物理气相沉积涂层的喷涂方法说明:本发明涉及一种多联体涡轮导向叶片等离子物理气相沉积涂层的喷涂方法,所述喷涂方法利用机械手以及双轴变位...专利查询请上爱