等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD) 设备图片 【仪器简介】:生产商:瑞士Oerlikon Metco,可实现粉末气、液、固单相或多相沉积,用于制备独特结构、性能优异的先进涂层,例如高性能热/环境障涂层、电解质、高温抗氧化涂层等。 【仪器参数】:(1)配备低压等离子喷枪(F4VB)和大功率离子喷枪(O3CP) (2)多组分工作气体,如A...
浅析:等离子喷涂-物理气相沉积 等离子喷涂物理气相沉积(PS-PVD)是一种基于低压等离子喷涂技术的新型多功能薄膜和涂层制备技术。由于其独特的等离子射流特性,可以实现气-液-固两相的多相沉积,实现非视线沉积。本文首先介绍了国内外PS-PVD等离子体数值模拟和在线检测技术的研究现状。其次,讨论了PS-PVD柱状热障涂层的形成机...
等离子喷涂物理气相沉积(Plasma Spray Physical Vapor Deposition,PSPVD)是一种先进的表面涂层技术,可用于制造高效太阳能电池、光催化器件等。近年来,PSPVD技术取得了显著的进展。本文将介绍PSPVD的基本原理、优缺点以及最新研究进展。 一、PSPVD的基本原理 PSPVD通过高温等离子体将气相物质加热至熔融状态,然后将其喷...
Key words: PS-PVD; coating growth; non-/spontaneous nucleation; spectral diagnosis 等离子喷涂物理气相沉积(Plasma Spray-Physical 采用PS-PVD(Multicoat™ PS-PVD system, Oerlikon- Vapor Deposition, PS-PVD)是20 世纪末基于低压等 Metco)工艺在抛光基体上沉积陶瓷层。喷涂所用粉 离子喷涂(Low Prossure...
等离子喷涂物理气相沉积(PS-PVD)最早是由瑞士苏尔寿美科公司开发的一种气相沉积涂层的低压等离子喷涂技术。PS-PVD是在非常成熟的低压等离子喷涂技术(LPPS)的基础上进行研发。与传统真空等离子喷涂(VPS)和低压等离子喷涂(LPPS)相比,此工艺在低于2 mbar的环境下使用高能等离子喷枪进行工作。在此工况条件下产生的超常规等离...
（热导率<1.5W ·（m ·K ）−1 ，1000℃），但结合强度 低（<30MPa ）.EB-PVD 通过电子束加热蒸发涂层材料，加热后的材料以气相原子状态为主进行沉积生长，制备出的涂层在微观下呈现较为均匀的柱状结 构，但热导率较高[1，4]，且隔热性能较差.近年来，等离子喷涂-物理气相沉积（PS-PVD ）已成为新兴...
等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD)是基于低压等离子喷涂发展起来的一种新型多功能涂层与薄膜制备技术。PS-PVD技术喷涂材料广泛包括陶瓷粉末、金属粉末、塑料粉末、溶液等,可实现气相沉积。PS-PVD在低压(～150Pa)喷涂时等离子射流长达2000mm、直径达400mm,喷涂面积大、沉积效率高、射流速度快,且可实现非视线沉积。通过...
可以用来获得特殊及独特的涂层.PS-PVD一个非常关键特点是能够通过多种方法沉积涂层,不仅可以熔化粉末以液态形式堆积形成层状结构涂层,还可以气化粉末形成气相.因此,PS-PVD工艺很好地结合了传统物理气相沉积(PVD)技术与常规热喷涂技术.以气相沉积所形成的涂层具有新颖独特微观结构.与EB-PVD不同之处在于,PS-PVD能够将...