等离子喷涂-物理气相沉积(PS-PVD) 设备图片 【仪器简介】:生产商:瑞士Oerlikon Metco,可实现粉末气、液、固单相或多相沉积,用于制备独特结构、性能优异的先进涂层,例如高性能热/环境障涂层、电解质、高温抗氧化涂层等。 【仪器参数】:(1)配备低压等离子喷枪(F4VB)和大功率离子喷枪(O3CP) (2)多组分工作气体,如A...
等离子喷涂物理气相沉积(Plasma Spray Physical Vapor Deposition,PSPVD)是一种先进的表面涂层技术,可用于制造高效太阳能电池、光催化器件等。近年来,PSPVD技术取得了显著的进展。本文将介绍PSPVD的基本原理、优缺点以及最新研究进展。 一、PSPVD的基本原理 PSPVD通过高温等离子体将气相物质加热至熔融状态,然后将其喷...
等离子喷涂物理气相沉积(PS-PVD)最早是由瑞士苏尔寿美科公司开发的一种气相沉积涂层的低压等离子喷涂技术。PS-PVD是在非常成熟的低压等离子喷涂技术(LPPS)的基础上进行研发。与传统真空等离子喷涂(VPS)和低压等离子喷涂(LPPS)相比,此工艺在低于2 mbar的环境下使用高能等离子喷枪进行工作。在此工况条件下产生的超常规等离...
可以用来获得特殊及独特的涂层.PS-PVD一个非常关键特点是能够通过多种方法沉积涂层,不仅可以熔化粉末以液态形式堆积形成层状结构涂层,还可以气化粉末形成气相.因此,PS-PVD工艺很好地结合了传统物理气相沉积(PVD)技术与常规热喷涂技术.以气相沉积所形成的涂层具有新颖独特微观结构.与EB-PVD不同之处在于,PS-PVD能够将...