离子铣技术（Ion milling technology）是指利用离子束对固体表面进行铣加工的技术。离子铣技术的优点是表面加工精度非常高，表面损伤小。离子铣技术可以代替光刻工艺，用来刻蚀器件或电路图形，它不仅刻蚀精度高，而且不会造成沾污或遗留杂质。但离子铣床比光刻机昂贵。离子铣装置 离子铣技术是利用离子束对固体表面进行铣...
主要商品 离子铣床 金属有机化学气相沉积设备 直流真空溅射设备 物理气相沉积(PVD)设备 物理气相沉积(PVD)涂层系统 物理气相沉积镀膜设备 离子束刻蚀系统 分子束外延系统 Veeco Instruments Inc (US)离子铣床 Leica Microsystems Gmbh (Germany)离子铣床 金属有机化学气相沉积设备 直流真空溅射设备 物理气相沉积(PVD)设...
刻蚀的定向性是由于离子束中的离子是通过一个强垂直电场来加速的,反应室中的压力很低,因此原子间的碰撞几乎是完全是不可能的,结果,当原子撞击晶圆片表面时其速度是近乎完全垂直的。因为它是与化学特性无关的,因此对任何材料都可做各向异性刻蚀。 离子铣的第二个优点是它可以用来刻蚀各种不同类型的材料,包括很多化...
物理溅射(图1)和离子铣(图2)是使用由等离子体产生的大重量正离子原子加速对衬底进行轰击移除材料的纯物理工艺 离子能量在这一工艺中非常高,通常大于500eV. 主要的优势是高度同向异性蚀刻,能够刻蚀出接近直线的形貌. 缺点则是对材料几乎没有选择比,趋向将表面的材料全部刻蚀,因此表面损伤是这一工艺的问题之一. ...
离子束铣削 (Ion Beam milling) 是一种利用离子源在基板上进行材料去除工艺的薄膜技术。Ion Beam milling 是一种离子束溅射,无论是用于预清洁还是图案蚀刻,它都有助于确保出色的附着力和 3D 结构的精确形成。主要用于微电子制造、光学元件制造和材料科学研究中。离子束铣
离子铣削系统是为SEM和EBSD用户的斜度切削制样和无损表面抛光制样而设计多功能离子束铣削系统,ion milling system,是SEM扫描电镜位点特异性样品制备的理想离子铣削仪器装置和离子坡度切削仪器。 离子铣削系统特点 易于使用和自动化操作 市场上最广泛的能量范围100eV-16keV ...
IM4000 Plus系列离子铣削系统是支持断面铣削和Flatmilling®的第二代IM4000系列混合动力仪器。提供多种系统配置:标准,冷却,空气保护,冷却和空气保护。
此外,氮气也常用于离子铣刻蚀中。氮气刻蚀具有较低的刻蚀速率和较高的选择性,可以在保证刻蚀精度的同时,减少对周围材料的损伤。氮气刻蚀特别适用于对材料表面质量要求较高的加工场景,如光学元件的制造。 除了上述气体外,还有其他一些气体也被应用于离子铣刻蚀中,如二氧化碳、甲烷等。这些气体具有不...
IBM离子铣/IBE离子束刻蚀系统:NIE-4000 独立式 IBE 刻蚀系统NIE-3500 紧凑型独立式 IBE 刻蚀系统NIR-4000 独立式 IBE / RIE 双刻蚀系统NIE-3000 台式 IBE 刻蚀系统NANO-MASTER那诺-马斯特的IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配...