反应溅射是一种材料表面处理技术,它结合了溅射镀膜与化学反应的特点。以下是关于反应溅射的详细解释: 一、定义 反应溅射是指在惰性气体(如氩气)和活性气体(如氧气、氮气等)的混合气氛中,利用高能粒子轰击靶材表面,使靶材原子或分子被溅射出来并沉积在基片上的过程。在这个过程中,溅射出来的靶材原子或分子会与活性气体...
而反应溅射则在此基础上,引入反应气体。例如在制备氮化硅薄膜时,以硅靶为溅射源,通入氮气作为反应气体。溅射出来的硅原子与氮气在气相中或在基片表面发生反应,形成氮化硅并沉积在基片上。 ③ 反应溅射法具有很多优点。其中一个显著优点是可以精确控制薄膜的成分和结构。通过调节反应气体的流量、溅射功率等参数,能够...
反应溅射是在溅射镀膜中引入某些活性反应气体与溅射粒子进行化学反应,生成不同于靶材的化合物薄膜的过程。 例如通过在O2中溅射反应制备氧化物薄膜,在N2或HH3中制备氮化物薄膜,在C2H2或CH4中制备碳化物薄膜等。 如同蒸发一样,反应过程基本上发生在基板表面,气相反应几乎可以忽略,在靶面同时存在着溅射和反应生成化合物的两...
反应溅射原理的实际应用可以追溯到数百年前。在18世纪末,科学家们开始研究金属的氧化现象,并发现金属表面被氧化时,会溅射出金属离子。这一现象引起了科学家们的兴趣,他们开始探索溅射现象的机理和应用。 随着科技的发展,人们逐渐认识到反应溅射原理的重要性。在材料科学领域,反应溅射被广泛应用于薄膜制备和表面修饰。通...
反应性溅射就是在溅射沉积过程中，靶材（即溅射源）的原子在被击出后，和一种或多种气体反应，形成...
反应性溅射就是在溅射沉积过程中，靶材（即溅射源）的原子在被击出后，和一种或多种气体反应，形成...
一、反应溅射工作原理 反应溅射是一种材料制备技术,通过在固体表面上加热反应物,产生气相反应并将反应产物沉积在基底上来形成薄膜。反应溅射技术可以用于制备各种材料,包括金属、氧化物、半导体和纳米材料等。 反应溅射工作原理如下:首先,在真空环境下,将一定...
反应溅射技术是一种常用的制备二氧化钛薄膜的方法,而氧分压是该过程中的一个关键参数。 一、氧分压对二氧化钛成分的影响 在反应溅射过程中,氧分压的高低直接影响到二氧化钛薄膜的成分。当氧分压较低时,溅射出的钛原子可能无法与足够的氧原子结合,导致薄膜中氧含量不足,...
关于反应溅射工艺
本发明涉及在真空室内导入含有反应性气体的工艺气体进行成膜的反应性溅射法,特别涉及在溅射靶的非腐蚀区域沉积的颗粒沉积物、在溅射靶的腐蚀区域产生的结瘤不易从溅射靶脱离,又能抑制因上述颗粒沉积物、结瘤的带电引起的电弧放电等的反应性溅射法,和采用了该反应性溅射法的层叠体膜的制造方法。