反应溅射原理的实际应用可以追溯到数百年前。在18世纪末,科学家们开始研究金属的氧化现象,并发现金属表面被氧化时,会溅射出金属离子。这一现象引起了科学家们的兴趣,他们开始探索溅射现象的机理和应用。 随着科技的发展,人们逐渐认识到反应溅射原理的重要性。在材料科学领域,反应溅射被广泛应用于薄膜制备和表面修饰。通过控制溅射条
转自:余东海 广东工业大学机电学院 现代表面工程的发展越来越多地需要用到各种化合物薄膜,反应磁控溅射技术是沉积化合物薄膜的主要方式之一。沉积多元成分的化合物薄膜,可以使用化合物材料制作的靶材溅射沉积,…
原理:反应溅射镀膜的反应气体压力很低,因此气相反应不显著,主要表现为固相反应。由于反应性气体压力的不同,其反应过程可以发生在溅射靶或基片上。若反应气体压力较高,则可能在溅射靶上发生反应,然后以化合物形式迁移到基片上成膜。若反应气体压力较低,等离子体中流通着很高的电流,促进反应气体分子的分解、激发和电离,...
反应溅射是一种材料制备技术,通过在固体表面上加热反应物,产生气相反应并将反应产物沉积在基底上来形成薄膜。反应溅射技术可以用于制备各种材料,包括金属、氧化物、半导体和纳米材料等。 反应溅射工作原理如下:首先,在真空环境下,将一定比例的反应物放置在反应...
一、磁控反应溅射技术的基本原理 磁控反应溅射技术是在真空条件下进行的一种物理气相沉积技术,其基本原理是在惰性气体(如氩)的存在下,利用磁控电弧产生的高温等离子体将靶材表面原子或分子击出并沉积到基底上,从而形成所需镀层。在氧化钇镀膜过程中,将纯氧气或氧气和惰性气体的混合气体引入反应室,过量...
四、反应溅射: 1.在溅射镀膜时,有意识地将某种反应性气体如氮气,氧气等引入溅射室并达到一定分压,即可以改变或者控制沉积特性,从而获得不同于靶材的新物质薄膜,2.如各种金属氧化物、氮化物、碳化物及绝缘介质等薄膜。 3.直流反应溅射存在靶中毒,阳极消失问题,上个世纪80年代出现的直流脉冲或中频孪生溅射,使反应溅射...
10溅射镀膜:用动能为几十电子伏的粒子束照射沉积材料表面,使表面原子获得入射粒子所带的一部分能量并脱离靶体后,在一定条件下沉积在基片上,这种镀膜方法称为溅射镀膜。 11化学气相沉积(CVD):在一个加热的基片或物体表面上,通过一个或几种气态元素或化合物产生的化学反应,而形成不挥发的固态膜...
第二章太阳能电池的工作原理及薄膜太阳能电池制备 光吸收层的主要方法有共蒸发法 孔、溅射法 共蒸发法目前薄膜太阳能电池世界纪录 。共蒸发制备薄膜是以 路线形成的。由于蒸气压很高而粘附系数较低 因此通常蒸发过量的 。贫硒情况下 硒化法硒化法又称为两步法包括预制层的制备和硒化反应。对于预制层的制备 溅射...
一、反应过程 磁控反应溅射法制备二氧化钛的过程主要包括两个步骤。首先,在磁控溅射器中加入含有钛元素的靶材,通过感应耦合等机制,钛靶材表面的原子被高速撞击并释放出来。其次,在反应室中,钛原子与氧气分子发生化学反应,生成二氧化钛。 二、反应条件 磁控反应溅射法制备二氧化钛需...