世界上首个三维晶体管“Tri-Gate”由英特尔于2011年5月6日宣布研制成功，这项技术被誉为年度最重要技术。与32nm平面晶体管相比，Tri-Gate晶体管能带来最多37%的性能提升，功耗减少一半，非常适合用于小型掌上设备。英特尔重新发明了晶体管，将它们从二维平面结构提升到了三维立体时代。过去几十年，晶体管...
在 Intel 以前所做的解释中,可以知道藉由导入这个技术,能减少因物理现象所导致的漏电现象。 更重要的是,藉由这个方法可以增加 Gate 端和下层的接触面积。在传统的做法中(左上图),接触面只有一个平面,但是采用 FinFET(Tri-Gate)这个技术后,接触面将变成立体,可以轻易的增加接触面积,这样就可以在保持一样的接触面积...
与之前人们猜想的情况有所不同,Bohr在发布会上称Intel的22nm制程处理器中所有的晶体管均采用tri-gate制作,而此前人们猜想的情况是仅有SRAM部分采用了tri-gate,而逻辑电路部分仍采用传统的平面型晶体管结构。另外,Bohr还透露在Intel的22nm制程处理器中,有些部分的晶体管电路采用了6鳍设计(在Finfet中,Fin即鳍的部分...
Tri-Gate晶体管的工艺模拟及仿真 摘要 近年来，随着半导体产业以及科技的飞速发展，半导体工艺尺寸的不断缩小，业界内传言摩尔定律也即将走到尽头。但是Intel在2011年宣布的Tri- Gate晶体管，也称为3D晶体管的成功研制使得处理器的性能大幅度提升，同时也可以让摩尔定律得到一定年限的延续。Intel此举堪称晶体管历史上最...
Intel 22nm制程tri-gate晶体管实物 Inteltri-gate晶体管结构图 Bohr称:“转向立体型晶体管设计的最大好处是管子的工作电压和漏电流可以较大幅度地减小。”另外,他还表示制造tri-gate晶体管所用的晶圆成本仅比传统平面型晶体管高2-3%左右。 PS:Intel口中的tri-gate其实与人们通常所说的Finfet本质相同,有关tri-gat...
1. 三栅 随着Intel前不久宣布用“三栅(TriGate)架构”的3D晶体管工艺成功生产出最小线宽22nm的IvyBridge处理器,开始向市场批量供 … www.elecfans.com|基于26个网页 2. 三栅极 传统芯片的晶体管都为平面晶体管。英特尔将这种3D晶体管技术叫“三栅极(TriGate)”,至今还没有将它应用到智能手机、平板 … ...
Intel 45nm工艺加入Tri-gate晶体技术 处理器生产商Intel宣布,他们成功把Tri-gate立体电晶体技术加入量产过程中,将有助提升产品的能源效益表现,并预计采用于未来45nm制程实现。据Intel表示,Tri-gate立体电晶体技术可进一步减少漏电(Leakage)及减少功耗需求,把Tri-gate立体电晶对比体现今的平面电晶体晶片设计,其开关切换...
Tri-Gate晶体管的工艺模拟及仿真 摘 要 近年来,随着半导体产业以及科技的飞速发展,半导体工艺尺寸的不断缩小,业界内传言摩尔定律也即将走到尽头。但是Intel在2011年宣布的Tri-Gate晶体管,也称为3D晶体管的成功研制使得处理器的性能大幅度提升,同时也可以让摩尔定律得到一定年限的延续。Intel此举堪称晶体管历史上最伟大...
tri-gate晶体管的工艺模拟及仿真 ITri-Gate晶体管的工艺模拟及仿真摘要近年来,随着半导体产业以及科技的飞速发展,半导体工艺尺寸的不断缩小,业界内传言摩尔定律也即将走到尽头。但是Intel在2011年宣布的Tri-Gate晶体管,也称为3D晶体管的成功研制使得处理器的性能大幅度提升,同时也可以让摩尔定律得到一定年限的延续。Intel...