SSMB-EUV光源做光刻机的优点是：仅仅三块反射镜（因为SSMB-EUV光源比LPP-EUV光源要纯净），镜片面积要求也小得多，只需十分之一。优点显然，光源质量比ASML的EUV光刻机强，整机开发难度下降不少，镜片的要求也降低了。这样就可以很好地解决光源小型化的问题了。清华大学的SSMB-EUV方案通俗地讲就是把光刻机大型化...
”这意味着SSMB技术可以利用现有的环形加速器和激光器，来产生符合EUV光刻机要求的EUV光源，并且可以通过调节激光参数来控制EUV光源的特性。此外，SSMB技术还具有低成本、高稳定、长寿命等优势，可以有效地降低EUV光刻机的运行成本和维护难度，提高EUV光刻机的产能和可靠性。结语 光刻机是芯片制造的核心设备，也是我国...
中国有没有可能突破这一困境，实现光刻机的自主研发和制造。近日，有一项来自清华大学的技术突破引起了广泛关注，这项技术就是SSMB-EUV方案，即利用高能加速器产生极紫外光源，驱动多台光刻机同时工作，实现高效率、低成本、高精度的芯片制造。这项技术有望让中国光刻机在未来实现弯道超车，甚至超越ASML。SSMB-EUV方...
一个说法是，中国可以建加速器产生EUV光源，不同频率的光源可以给28nm、14nm、7nm、5nm等多种芯片制程使用，用“光刻厂”替代ASML一台台的EUV光刻机，以出人意料的创新思维打破美国封锁。这个设想“通俗易懂”，感觉先进的国产光刻机一下有希望了。公众对SSMB-EUV这种很难懂的同步辐射光源产生兴趣，根本原因是希望...
清华SSMB-EUV方案的关键技术与创新点在于其光源的高功率输出和连续波输出的相干光特性。相较于传统光刻机光源,SSMB-EUV光源的功率高达10千瓦,是阿斯麦光刻机光源的40倍。这意味着,一台阿斯麦光刻机在工作时只能支持一个光源,而清华大学的SSMB-EUV光源则可以同时支持数十台光刻机。此...
光刻机作为集成电路生产的关键装备，已成为国家集成电路工业发展的一个重点。本项目将为新型极紫外光刻技术的发展和应用奠定基础，同时也将为极紫外光刻技术的发展带来新思路和新优势。本项目若能将 SSMB源技术与 EUV光刻机相结合，可望在国内光刻技术上取得突破性进展，缩短与国际领先水平的差距，提高国内集成电路行业...
一是在光源技术方面，我国已经实现了SSMB光源技术的原理验证实验，这是世界上首次在能量回收直线加速器中实现了SSMB效应，为未来开发更高性能的自由电子激光提供了重要参考。这项技术有望在未来几年内应用于光刻机中，从而提高我国光刻机的性能和效率。但是，目前我国还没有生产出能够与ASML竞争的EUV光刻机，而且在...
SSMB是一条新路,但还取代不了EUV光刻机 直到今天,麒麟9000s到底是怎么来的依然是一个谜,这也导致了国内外的各种猜想不断,前段时间,一则消息在各大视频平台广为传播,称清华大学EUV项目把ASML的光刻机巨大化,实现了光刻机国产化,并表示这个项目已经在雄安新区落地。
SSMB EUV光刻机相比传统EUV光刻机，具有多方面的技术优势。首先，其光源强度是普通同步辐射光源的数千倍甚至数万倍，这意味着更高的信噪比和更快的数据采集速度，能够显著提升芯片制造的效率和质量。其次，SSMB光源的带宽极窄，仅为普通同步辐射光源的千分之一，提供了更高的光谱分辨率和更低的背景噪声，有助于提升...
显然EUV光刻关键技术备受社会关注,有声音认为只要我们能够自己制造出一台EUV光刻机,国内半导体产业发展问题就基本解决,但事实并非如此。EUV光刻机只不过是中国半导体产业发展路上需要解决的问题的一个缩影,重要的,但绝非唯一的问题。作为全新的芯片前沿工艺体系,其研发是一个庞大的原始创新工程,需要光学、数学、物理学、...