6、清华大学的SSMB-EUV光刻方案。各类EUV光源特点 先来说说SSMB光源，SSMB光源是其中的电子在接近光速的情况下，在磁场中偏转，会在切线方向发出电磁辐射，电子在加速器里因为磁场约束绕圈，一秒能几百万圈，相当于存储在环里，一边绕一边发射电磁波。由于电子速度非常高，数量不少，能量也就不低，发出的电磁波就很多...
SSMB-EUV方案需要解决高能加速器产生的辐射对人员和环境的影响问题，这需要采取有效的防护措施和监测手段。结语 清华大学提出的SSMB-EUV方案是一种利用高能加速器产生极紫外光源的方案，有望让中国光刻机在未来实现弯道超车，甚至超越ASML。这项技术对中国芯片产业具有重要的意义，也对全球芯片市场和竞争格局产生深远的影...
根据论文报告基于SSMB的EUV光源有望实现大的平均功率，这个光源脉冲稳定光束比较小，并具备向更短波长扩展...
未来,基于SSMB-EUV光源的国产光刻机有望在全球市场上占据重要地位,为中国半导体产业的发展注入强劲动力。 清华SSMB-EUV方案与其他类似方案的比较 与传统的光刻机光源技术相比,清华SSMB-EUV方案具有显著优势。传统光刻机光源一般采用激光装置来产生极紫外光,而SSMB-EUV光源则采用了全新的...
目前，EUV光刻机使用的是基于气体放电或激光等离子体产生EUV光源的技术，这种技术存在着效率低、功率不稳、寿命短等问题，导致EUV光刻机的成本高、产能低、可靠性差。寻找一种更高效、更稳定、更持久的EUV光源技术，是EUV光刻机发展的关键所在。SSMB技术有望成为一种新型的EUV光源技术，为EUV光刻机提供新的解决方案...
所以，SSMB的EUV技术的关键就是生产规模，这个生产规模越大，这个生产成本就能越低。换句话说，只要中国这个SSMB的EUV技术真的办成了，那么中国在7纳米/5纳米工艺的芯片产能就必须要大规模井喷。因为只有超大规模化的生产才能降低基于SSMB的EUV技术成本，所以中国就别无选择，只能是拼命扩大产能，将这个技术的生产成本...
一个说法是，中国可以建加速器产生EUV光源，不同频率的光源可以给28nm、14nm、7nm、5nm等多种芯片制程使用，用“光刻厂”替代ASML一台台的EUV光刻机，以出人意料的创新思维打破美国封锁。这个设想“通俗易懂”，感觉先进的国产光刻机一下有希望了。公众对SSMB-EUV这种很难懂的同步辐射光源产生兴趣，根本原因是希望...
第一个热点话题,清华大学的SSMB-EUV可不可以作为EUV光刻机的光源?理论上来说是完全没问题的。清华大学唐传祥教授在《稳态微聚束加速器光源》这篇论文当中已经比较详细地阐述了SSMB的原理、实验验证、核心问题及挑战还有SSMB在芯片光刻当中的应用潜力。并且与LPP、SR(同步辐射光源)、SRF-FEL(基于射频超导直线加速器的...
而13次谐波则是 EUV波段的一部分。”这就使得 SSMB技术能够充分发挥目前已有的环形加速装置和激光器的优势，获得满足极紫外光刻工艺需求的极紫外光源，并能够实现对其性能的调控。同时， SSMB技术具有成本低、稳定性好、使用寿命长等优点，能够显著减少 EUV光刻设备的运营成本，提升其生产效率，提升其可靠性。光刻机...
通过采用SSMB-EUV方案，中国在光刻机产业上可以获得重要的突破和提升。这不仅对于中国的科技实力和产业发展具有重要意义，也对于全球光刻机产业的发展起到了积极推动的作用。辗转半生与物理学界的未来 杨振宁先生在物理学界的辗转半生中，培育了许多优秀的学生。这些学生中有些已经成为了国内外的物理学家，有些则从事...