The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,其最小的X射线束光栅扫描直径约为10微米。X射线束的大小可以轻易的使用电脑控制在直径10微米到400微米设定,从而达到最好的空间解释度与最高的灵敏度。VP-II 可以轻易的对不管是导体或非导体获取化学态的成像 或是离子溅射的...
The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,具有离子与电子双中和系统,以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪,UPS适用于表面状态分析,能获得能带结构。 详细介绍 XPS 作为一种重要的表面分析方法,广泛应用于固体材料表面的元素组分和化学态的研究,例如电池材料,催化剂...
在2022年,该中心新配备的ULVAC-PHI先进的XPS(PHI VersaProbe 4)和TOF-SMIS(PHI nanoTOF II)开始正式启用,意味着在表面分析领域的科研技术手段进一步增强,势必会为更多的科研设想带来实现的可能性。 图1. 清华大学深圳国际研究生院材料与器件检测技术中心的XPS设备:PHI 5000 VersaProbe II。 图2. 清华大学深圳国际...
PHI Versaprobe 4 X射线光电子能谱仪 日本ULVAC-PHI 上海庄润国际贸易有限公司 3年 “PHI 5000 Versaprobe IIX 射线光电子能谱仪”的结果有点少,为您展示“射线光电子能谱仪”的结果,您也可直接去问我~ 去提问 查看详情 ￥1000.00万/台 上海 赛默飞 EscaLab Xi+ X射线光电子能谱仪 热电XPS 在线...
该研究所配备了世界上Z为先进的XPS、TEM、STEM、XRD和MARS等设备,其中包括ULVAC-PHI公司的PHI 5000 VersaProbe II(XPS)、PHI 5000 VersaProbe III(XPS)和PHI Quantera(XPS)仪器,为相关研究提供了重要的实验支撑。[1] 图1. 东京大学大学院工学系研究科综合研究所的PHI VersaProbe XPS设备...
在2022年，该中心新配备的ULVAC-PHI先进的XPS（PHI VersaProbe 4）和TOF-SMIS（PHI nanoTOF II）开始正式启用，意味着在表面分析领域的科研技术手段进一步增强，势必会为更多的科研设想带来实现的可能性。图1. 清华大学深圳国际研究生院材料与器件检测技术中心的XPS设备：PHI 5000 VersaProbe II 图2. 清华大学深圳...
各位大侠 小弟急需XPS---PHI 5000 VersaProbe 操作步骤或使用说明书 请各位大侠帮忙 感激不尽！
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PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备最*新产品,应用了PHI业界领xian的ZL扫描X-射线技术和ZL双束中和技术,成为更高水平的多功能分析仪器。 最*新技术: ●新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。 ●新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。