PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备最*新产品,应用了PHI业界领xian的ZL扫描X-射线技术和ZL双束中和技术,成为更高水平的多功能分析仪器。 最*新技术: ●新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。 ●新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。
PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备*新产品,应用了PHI业界的扫描X-射线技术和双束中和技术,成为更高水平的多功能分析仪器。 *新技术: l新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。 l新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。 l新的变角分析技术(ADXPS)收集角可达+/-5°,改善深度分辨率。
VP-II 维持了PHI 5000 Versaprobe的核心能力,包括扫描和聚焦 X 射线,zl的离子与电子双中和系统,以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪;另有可选项配置C60离子枪,提供了许多有机材料独特而强大的溅射深度剖析能力;另外,一个完全自动化的五轴样品操盘促进多个样品的自动分析并提供Zalar旋转“Zalar RotationTM”...
The PHI 5000 Versaprobe II (VP-II) 能提供高性能的微区光谱,化学成像,二次电子成像,具有离子与电子双中和系统,以及可以在极低电压也可工作的高效能离子枪,UPS适用于表面状态分析,能获得能带结构。 详细介绍 XPS 作为一种重要的表面分析方法,广泛应用于固体材料表面的元素组分和化学态的研究,例如电池材料,催化剂...
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利用原位XPS(PHI Versaprobe III)研究电化学电镀过程中Li金属与LPSCl硫化物固体电解质界面的电流密度介导的界面相的演变。结果表明形成的负电荷表面有利于Li+离子的迁移,结果导致金属Li镀在SE表面上。此外,通过改变电子束电流可以调控入射到SE表面的电子通量,从而调节虚拟电极的电镀电流。如图3所示,展示了在三种不同电流...
PHI VersaProbe III是独特的扫描 X射线单色化的 XPS设备,具有**的大面积和微区分析能力。其设计需求是为快速地,空间分辨分析固体表面的元素和化学态组成。PHI VersaProbe III 结合独特的扫描单色化 X 射线和自动化样品控制以及分析区域识别系统,可在自动化环境下实现化学态成像和多点图谱分析功能。
例如,我们的用户利用PHI VersaProbe设备对嵌入磁性CoNi合金颗粒的掺氮碳纤维复合材料表面进行了表征,研究发现该材料表现出优异的电磁波吸收性能。该项工作发表于《Colloid and Interface Science》1上,引用频次相当高(一年内已被引用24次)。 为了深入理解材料/器件性能和结构之间的联系,利用XPS结合功能配件进行多技术表征...
利用原位XPS(PHI Versaprobe III)研究电化学电镀过程中Li金属与LPSCl硫化物固体电解质界面的电流密度介导的界面相的演变。结果表明形成的负电荷表面有利于Li+离子的迁移,结果导致金属Li镀在SE表面上。此外,通过改变电子束电流可以调控入射到SE表面的电子通量,从而调节虚拟电极的电镀电流。如图3所示,展示了在三种不同电流...
例如,我们的用户利用PHI VersaProbe设备对嵌入磁性CoNi合金颗粒的掺氮碳纤维复合材料表面进行了表征,研究发现该材料表现出优异的电磁波吸收性能。该项工作发表于《Colloid and Interface Science》1上,引用频次相当高(一年内已被引用24次)。 为了深入理解材料/器件性能和结构之间的联系,利用XPS结合功能配件进行多技术表征...