PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备*新产品,应用了PHI业界的扫描X-射线技术和双束中和技术,成为更高水平的多功能分析仪器。 *新技术: l新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。 l新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。 l新的变角分析技术(ADXPS)收集角可达+/-5°,改善深度分辨率。
PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备最*新产品,应用了PHI业界领xian的ZL扫描X-射线技术和ZL双束中和技术,成为更高水平的多功能分析仪器。 最*新技术: ●新的分析器输入透镜,将灵敏度提高了两到三倍。 ●新的多通道探测器使得元素和化学态成像速度更快。
利用原位XPS(PHI Versaprobe III)研究电化学电镀过程中Li金属与LPSCl硫化物固体电解质界面的电流密度介导的界面相的演变。结果表明形成的负电荷表面有利于Li+离子的迁移,结果导致金属Li镀在SE表面上。此外,通过改变电子束电流可以调控入射到SE表面的电子通量,从而调节虚拟电极的电镀电流。如图3所示,展示了在三种不同电流...
利用原位XPS(PHI Versaprobe III)研究电化学电镀过程中Li金属与LPSCl硫化物固体电解质界面的电流密度介导的界面相的演变。结果表明形成的负电荷表面有利于Li+离子的迁移,结果导致金属Li镀在SE表面上。此外,通过改变电子束电流可以调控入射到SE表面的电子通量,从而调节虚拟电极的电镀电流。如图3所示,展示了在三种不同电流...
利用原位XPS(PHI Versaprobe III)研究电化学电镀过程中Li金属与LPSCl硫化物固体电解质界面的电流密度介导的界面相的演变。结果表明形成的负电荷表面有利于Li+离子的迁移,结果导致金属Li镀在SE表面上。此外,通过改变电子束电流可以调控入射到SE表面的电子通量,从而调节虚拟电极的电镀电流。如图3所示,展示了在三种不同电流...
利用原位XPS(PHI Versaprobe III)研究电化学电镀过程中Li金属与LPSCl硫化物固体电解质界面的电流密度介导的界面相的演变。结果表明形成的负电荷表面有利于Li+离子的迁移,结果导致金属Li镀在SE表面上。此外,通过改变电子束电流可以调控入射到SE表面的电子通量,从而调节虚拟电极的电镀电流。如图3所示,展示了在三种不同电流...
PHI VersaProbe III是独特的扫描 X射线单色化的 XPS设备,具有**的大面积和微区分析能力。其设计需求是为快速地,空间分辨分析固体表面的元素和化学态组成。PHI VersaProbe III 结合独特的扫描单色化 X 射线和自动化样品控制以及分析区域识别系统,可在自动化环境下实现化学态成像和多点图谱分析功能。
利用原位XPS(PHI Versaprobe III)研究电化学电镀过程中Li金属与LPSCl硫化物固体电解质界面的电流密度介导的界面相的演变。结果表明形成的负电荷表面有利于Li+离子的迁移,最 终导致金属Li镀在SE表面上。此外,通过改变电子束电流可以调控入射到SE表面的电子通量,从而调节虚拟电极的电镀电流。如图3所示,展示了在三种不同...
为了对电池开展深入研究,该研究院采购了PHI XPS 设备(PHI 5000 Versaprobe III)。在PHI 公司售后和应用团队的支持下,该设备一直保持着出色的运行状态,为相关研究提供了大量重要实验数据,至今已在Advanced Science、Advance Energy Materials、ACS Energy Letters、Carbon及Chemical Engineering Journal等国内外顶级期刊发表...
利用原位XPS(PHI Versaprobe III)研究电化学电镀过程中Li金属与LPSCl硫化物固体电解质界面的电流密度介导的界面相的演变。结果表明形成的负电荷表面有利于Li+离子的迁移,最终导致金属Li镀在SE表面上。此外,通过改变电子束电流可以调控入射到SE表面的电子通量,从而调节虚拟电极的电镀电流。如图3所示,展示了在三种不同电流...