The NSR-S636E incorporates a 1.35 numerical aperture lens and advanced lens materials are utilized to reduce thermal absorption. This also ensures that aberration and local flare levels are extremely low. Coupled with the advanced Straight Line Autofocus system, the S636E delivers optimal CD uniformit...
12月9日消息，根据日本光刻机大厂尼康（Nikon）官方消息，其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称，作为半导体生产过程中关键层的曝光系统，NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率，并具有高水准的套刻精度和生产速度，可为尖端半导体器件中的 3D 等器件结构多样化的挑战提供解决方案。 尼康在新...
12月9日消息,根据日本光刻机大厂尼康(Nikon)官方消息,其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称,作为半导体生产过程中关键层的曝光系统,NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率,并具有高水准的套刻精度和生产速度,可为尖端半导体器件中的 3D 等器件结构多样化的挑战提供解决方案。 尼康在新闻稿中...
NSR-S636E采用了浸润式光刻技术,相比传统的干法光刻机,具备更高的分辨率和更低的误差。其核心技术包括浸润式光学系统、高速运动平台和先进的控制系统。浸润式光学系统能够实现更短的波长和更高的分辨率,高速运动平台保证了图案的准确转移,而先进的控制系统则能够实时调整和监控生产过程,以确保光刻质量的稳定性。 3. ...
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IT之家 12 月 7 日消息，尼康官网发布新闻稿，宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E，将于明年 1 月开售。据介绍，NSR-S636E 是尼康光刻系统中生产率最高的产品，是一款用于关键层的浸润式光刻机。尼康表示，随着数字化转型的加速，能够更快地处理和传输大量数据的高性能半导体变得越来越重要。尖端半导体...
12 月 7 日消息,尼康官网发布新闻稿,宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E,将于明年 1 月开售。 据介绍,NSR-S636E 是尼康光刻系统中生产率最高的产品,是一款用于关键层的浸润式光刻机。 尼康表示,随着数字化转型的加速,能够更快地处理和传输大量数据的高性能半导体变得越来越重要。尖端半导体性能技术创新...
IT之家 12 月 7 日消息,尼康官网发布新闻稿,宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E,将于明年 1 月开售。 据介绍,NSR-S636E 是尼康光刻系统中生产率最高的产品,是一款用于关键层的浸润式光刻机。 尼康表示,随着数字化转型的加速,能够更快地处理和传输大量数据的高性能半导体变得越来越重要。尖端半导体性能...
12 月 7 日,尼康官网发布新闻稿,宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E,将于明年 1 月开售。 据介绍,NSR-S636E 是尼康光刻系统中生产率最高的产品,是一款用于关键层的浸润式光刻机。 尼康表示,随着数字化转型的加速,能够更快地处理和传输大量数据的高性能半导体变得越来越重要。尖端半导体性能技术创新的关...
IT之家12 月 7 日消息,尼康官网发布新闻稿,宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E,将于明年 1 月开售。 据介绍,NSR-S636E 是尼康光刻系统中生产率最高的产品,是一款用于关键层的浸润式光刻机。 尼康表示,随着数字化转型的加速,能够更快地处理和传输大量数据的高性能半导体变得越来越重要。尖端半导体性能...