12月9日消息，根据日本光刻机大厂尼康（Nikon）官方消息，其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称，作为半导体生产过程中关键层的曝光系统，NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率，并具有高水准的套刻精度和生产速度，可为尖端半导体器件中的 3D 等器件结构多样化的挑战提供解决方案。 尼康在新...
尼康的NSR-S636E作为一款先进的浸润式光刻机,无疑为克服这些挑战带来了新的可能。 尼康推出的浸润式ArF光刻机NSR-S636E以其先进的技术和出色的性能,成为了半导体制造领域的新宠。其高分辨率、低误差、稳定性和可拓展性等特点,将推动光刻技术的进一步发展,为行业的不断进步和芯片产品的创新提供有力支撑。
尼康表示，与当前型号相比，NSR-S636E 的生产效率提高了 10-15%。IT之家从尼康官网参数表获悉，NSR-S636E 光刻机支持 38nm 以下精度，吞吐量可达 280 片晶圆 / 小时。据日经新闻此前报道，时隔二十多年，尼康将于 2024 年投放光刻机新产品，通过寻求逆势开拓中国大陆市场，以实现卷土重来。不过，报道中提到的...
IT之家 12 月 7 日消息,尼康官网发布新闻稿,宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E,将于明年 1 月开售。 据介绍,NSR-S636E 是尼康光刻系统中生产率最高的产品,是一款用于关键层的浸润式光刻机。 尼康表示,随着数字化转型的加速,能够更快地处理和传输大量数据的高性能半导体变得越来越重要。尖端半导体性能...
尼康宣布推出全新ArF浸没式光刻机NSR-S636E,生产效率提升15% 12月9日消息,根据日本光刻机大厂尼康(Nikon)官方消息,其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称,作为半导体生产过程中关键层的曝光系统... û收藏 7 7 ñ3 评论 o p 同时转发到我的微博 按热度 按时间 正在加载,请...
尼康推出浸润式 ArF 光刻机 NSR-S636E,生产效率提高 10-15% û收藏 转发 评论 ñ赞 评论 o p 同时转发到我的微博 按热度 按时间 正在加载,请稍候... 数码博主 超话粉丝大咖(音乐超话) 查看更多 a 651关注 1304粉丝 27502微博 微关系 她的关注(617) 夏东旭 小米山...
8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售...
对此,有业内称,NSR-S636E可以直接光刻加工量产型5nm制程芯片,这个说法尽管有些夸张,但足见其在浸润式DUV光刻机市场的潜在实力。 更为可贵的是,NSR-S636E是我们的企业和媒体经常挂在嘴边上的完全国产。例如其光源使用的是日本gigaphoton公司(注:它是日本最大工程机械企业小松旗下的半导体企业,在光刻设备的DUV光源...
12 月 7 日,尼康官网发布新闻稿,宣布推出浸润式 ArF 光刻机新品 NSR-S636E,将于明年 1 月开售。 据介绍,NSR-S636E 是尼康光刻系统中生产率最高的产品,是一款用于关键层的浸润式光刻机。 尼康表示,随着数字化转型的加速,能够更快地处理和传输大量数据的高性能半导体变得越来越重要。尖端半导体性能技术创新的关...
2023年12月9日消息,根据日本光刻机大厂尼康(Nikon)官方消息,其将于2024年1月正式发布ArF浸没式光刻机NSR-S636E。尼康称,作为半导体生产过程中关键层的曝光系统,NSR-S636E具有尼康历史上更高的生产效率,并具…