NSR-S635E reliability and throughput are critical factors in boosting wafer output per day and overall cost efficiency. The NSR-S635E can process up to 275 wafers per hour using a scan speed of 900 mm/sec and a 120 watt laser. In addition, nozzle innovations prevent immersion defects, ...
尼康的NSR-S635E光刻机 当然,尼康的5nm说法有没有吹,无法确证,因为现在芯片制造领域,为了市场宣传需要,大喇叭们马力开足,混淆概念,自立标准,所以才出现了台积电7nm工艺制造的芯片晶体管密度竟然和英特尔10nm工艺的相当。 不过,有一点可以肯定,尼康的NSR-S635E光刻机实现中芯国际正在研发的7nm工艺问题不大。 说到这...
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