电容耦合等离子体的产生是由射频电源(射频 RF:Radio Frequency,高频交流电)加在平行板电容器两电极板上(①因为面积小的电极板会获得更高的鞘层电压,因此上电极板面积大于下电极板面积,目的在于使wafer获得更高的离子轰击能量以及减弱对上电极的damage。详见之前文章:Plasma中离子鞘层产生原理以及鞘层内离子行为;②CCP的...
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icp和ccp并非说一定高低区分,但是icp适用金属 多晶(硅)的科蚀,ccp适用于耦合键能比较大的氧化物的科蚀。两者的人plasma的产生方式不同,导致温度,能量等不同。适用于不同的晶圆的层级。从目前信息看,的确中微在台积电逻辑制程这里做关键层(我指硅这一层)没有或者较少,在金属链接这一层可能有,在通孔这一层可能...
ICP(Inductively Coupled Plasma) 电感耦合等离子体 和CCP不同,ICP 有一个线圈和一个电极。交流电流流过线圈产生诱导磁场->诱导磁场产生诱导电场->电子在诱导电场中加速产生等离子体。离子化率高,但是plasma 均一性差。 CCP 和 ICP 比较 CCP 有RIE (Reactive Ion Etching) 和PE (Plasma Enhanced, Sputter Depostio...
HDP），而bias RF功率则用于精细调控离子能量，特别是在低压环境下，如在干蚀刻中，ICP能更好地维持垂直刻蚀轮廓，产生所需的Plasma。由于CCP在低压下难以形成等离子体，ICP的发明解决了在低压力和高离子密度、低离子能量之间的平衡问题，使得等离子体源技术更加灵活和高效。
灯条等离子清洗机 plasma除胶 增强附着力 免费打样 ¥ 63512.00 商品描述 价格说明 联系我们 咨询底价 品牌: JinLai 规格: <±1%FS 加工定制: 是 频率: 13.56MHz射频 功率: 0~1000W可调 单个材质: 316L不锈钢,航空铝-53 腔体内部尺寸: 500*700*600(宽高深) 容积: 200L 极板: 22层,水平...
ICP功率越大，意味着更多的刻蚀气体被电离成等离子体，等离子体的密度会增加，密度增加会使刻蚀时化学反应...
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A hybrid-type plasma reaction apparatus is provided to effectively perform a waferless in-situ chamber clean process as compared with a CCP(capacitive coupled plasma)-type reaction apparatus by maximizing the advantage of high efficiency, low ion damage, a decoupled effect and the like. An ICP(...
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