电容耦合等离子体的产生是由射频电源(射频 RF:Radio Frequency,高频交流电)加在平行板电容器两电极板上(①因为面积小的电极板会获得更高的鞘层电压,因此上电极板面积大于下电极板面积,目的在于使wafer获得更高的离子轰击能量以及减弱对上电极的damage。详见之前文章:Plasma中离子鞘层产生原理以及鞘层内离子行为;②CCP的...
ICP与CCP的产生原理、各自特点以及二者比较如下：一、产生原理 ICP产生原理：ICP通过在Chamber顶部绝缘板上的漩涡状感应线圈施加射频电流，感应出高频振荡磁场，从而产生低温plasma。CCP产生原理：CCP由射频电源在平行板电容器两电极板间形成高频电场产生。上电极板面积大于下电极板，以使wafer获得高离子能量并...
型号 ccp刻蚀设备与ICPJL-VM200 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,则最终以订单结算页价格为准。 抢购价:商品参与营销活...
CCP中，电子在电极间高频往返运动，要求电极间距大、压力高以产生较高浓度plasma。压力影响离子入射角度，高压力导致鞘层内离子发散。这种特性限制了CCP在高阶制程的应用。电感耦合等离子体（ICP）原理与特性ICP通过在Chamber顶部绝缘板上的漩涡状感应线圈施加射频电流，感应出高频振荡磁场，产生低温plasma。ICP...
回复@投资的初心: ccp和icp只是等离子体产生机制不同,plasma如何轰机还是要靠机台的进一步控制,和能量,离子密度有关系。线宽再光刻和研膜确定后,离子轰击后的精准度当然也有要求。至于各向同性和各向异性这个问题应该不是这个层面的问题,干法和湿法的区别,我的理解。但目前了解到的信息,中微的机台inline后,刚上去跑...
HDP），而bias RF功率则用于精细调控离子能量，特别是在低压环境下，如在干蚀刻中，ICP能更好地维持垂直刻蚀轮廓，产生所需的Plasma。由于CCP在低压下难以形成等离子体，ICP的发明解决了在低压力和高离子密度、低离子能量之间的平衡问题，使得等离子体源技术更加灵活和高效。
ICP(Inductively Coupled Plasma)电感耦合等离子体 和CCP不同,ICP 有一个线圈和一个电极。交流电流流过线圈产生诱导磁场->诱导磁场产生诱导电场->电子在诱导电场中加速产生等离子体。离子化率高,但是plasma 均一性差。 CCP 和 ICP 比较 CCP 有RIE(Reactive Ion Etching) 和PE (Plasma Enhanced,Sputter Depostion) ...
这支团队凭借在半导体设备领域的深厚积淀与丰富经验,首先聚焦于8英寸ICP(感应耦合等离子刻蚀)、CCP(电容耦合等离子刻蚀)以及DSE(硅通孔)设备的研发与生产。他们致力于在SiC(碳化硅)、IGBT(绝缘栅双极型晶体管)以及介质材料等关键领域内,打造出全系列、更可靠、更贴合用户实际需求的高性能产品,以卓越的品质和贴心的...
价格 ¥ 94286.00 起订数 1台起批 发货地 广东东莞 商品类型 办公文教 、 实验室用品 、 清洗机器 商品关键词 ccp刻蚀设备与ICP、 手持式plasma蚀刻机器、 中芯国际蚀刻工艺工程师、 真空等离子去胶机器、 增强附着力、 免费打样 商品图片 商品参数 品牌: JinLai 规格: <±1%FS 加工定制: ...
电容性等离子体(CCP)与电感性等离子体(ICP)蚀刻机报告主要研究企业名单如下,也可根据客户要求增加目标企业:Oxford Instruments、Samco Inc.、Plasma-Therm、SENTECH Instruments、Torr International、Gigalane、Trion Technology、Syskey Teconology、Korea Vacuum Tech、Jiangsu Leuven Instruments、拉姆研究、东京电子、中微公司...