最常见也最常用的dry etch设备为ICP（Inductive Coupled Plasma ：电感耦合等离子体）/CCP（Capacitive Cou...
ICP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。 详细...
ICP等离子刻蚀机WINETCH是面向科研及企业研发客户使用需求设计的高性价比ICP等离子体系统。作为一个多功能系统,它通过优化的系统设计与灵活的配置方案,获得高性能ICP刻蚀工艺。该设备结构紧凑占地面积小,专业的机械设计与优化的自动化操作软件使该设备操作简便、安全,且工艺稳定重复性很好。
ICP Etch SPTS ICP process module is highly flexible and etches a wide range of materials including oxides, nitrides, polymers, low aspect ratio Si and metals. The Omega® ICP process module uses a patented high density plasma source incorporating a radial coil design. The The ICP module is...
网络感应耦合电浆蚀刻 网络释义 1. 感应耦合电浆蚀刻 ...影制程,将所需要的电极图案转印至薄膜光阻上, 并用感应耦合电浆蚀刻(ICP-etch),使用CF4气体进行蚀刻,形成微米的 … www.docin.com|基于 1 个网页
等离子体刻蚀分类 icp etch 更新时间:2024年12月15日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 已核验企业 在线交易 查看详情 ￥3.83万/台 广东东莞 ICP等离子体刻蚀 在线式plasma表面处理机器 支持定制 免费打样 金徕品牌 深圳市金徕技术有限公司 3年 查看详情 ￥6.49万/台 广东东莞 铁氟龙等离子体刻蚀 ...
当前dry etch机台种类多样，设计各不相同，旨在通过外加能量输入维持刻蚀gas的等离子体状态，此状态受到能量输入方式和机台结构设计的极大影响。最常使用的两类dry etch设备为ICP（电感耦合等离子体）与CCP（电容耦合等离子体）。在深入探讨ICP与CCP前，先解释耦合概念。耦合：在物理学中，指体系间通过相互...
ICP Etch SPTS ICP process module is highly flexible and etches a wide range of materials including oxides, nitrides, polymers, low aspect ratio Si and metals. The Omega® ICP process module uses a patented high density plasma source incorporating a radial coil design. The The ICP module is...
先简单写一点 以后再补充从生成的plasma特性来说ICP等离子体密度高CCP等离子体轰击力强实际上做etch的就...
感应耦合等离子体刻蚀法(InductivelyCou-pledPlasmaEtch,简称ICPE)是化学过程和物理过程共同作用的结果。它的基本原理是在真空低气压下,ICP射频电源产生的射频输出到环形耦合线圈,以一定比例的混合刻蚀气体经耦合辉光放电,产生高密度的等离子体,在下电极的RF射频作用下,这些等离子体对基片表面进行轰击,基片图形区域的半导体...