在iline光刻机中,激光干涉技术被用于实现光刻过程中的精确定位和曝光控制,从而保证了光刻图案的高精度和高效率。此外,iline光刻机还采用了先进的光学系统和精密的机械结构,以确保光刻过程的稳定性和可靠性。其工作原理主要涉及到光源的发射、光束的整形和聚焦、光刻胶的曝光和显影等步骤,通过精确...
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8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售。
第一二代光刻机均为接触接近式光刻机，曝光方式为接触接近式，G线（G-line）光刻机，使用的是436nm波长的光源。而I线（I-line）使用的是365nm波长的光源，这两种光刻机，也叫做紫外光刻机。而第三代升级为投影式光刻机，利用光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量将曝光方式升级为光学投影式光刻，以扫描的方式...
i-line光刻机是一种常用于半导体制造中的光刻设备。光刻是半导体工艺中的一项关键步骤,用于将芯片上的电路图案转移到光刻胶上,以便后续步骤进行电路制造。本文将介绍i-line光刻机的机制和制程。 一、i-line光刻机的机制 i-line光刻机采用的是i线光源,波长为365纳米。它通过以下几个步骤实现光刻的机制: 1. 掩...
第一二代光刻机均为接触接近式光刻机,曝光方式为接触接近式,G线(G-line)光刻机,使用的是436nm波长的光源。而I线(I-line)使用的是365nm波长的光源,这两种光刻机,也叫做紫外光刻机。 而第三代升级为投影式光刻机,利用光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量将曝光方式升级为光学投影式光刻,以扫描的方式实现曝光...
这个专利概述中不是说了嘛,紫外窄光谱,这个说的是激发光源是NUV谱400-300nm的汞灯光源,也就是i-line 对应365nm波长光源线。但是这个按国内的镜头只能做到200nm精度。 国内现在拿出成品销售的上海微电子SEEE,可做IC前道加工的600系列光刻机。i-line汞灯光源,只能加工200nm, ...
【环球时报驻日本特约记者 王天晴 环球时报记者 倪浩 王冬】据《日本经济新闻》近日报道,日企尼康计划2024年面向市场推出光刻机新品,使用上世纪90年代初的“i-line”老一代光源技术,来绕开日本对先进半导体进行的出口管制。报道称,这是尼康时隔25年后第一次推出新产品。为拯救经营颓势,日本光刻机企业打算定制产品,...
8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售...
第一二代光刻机均为接触接近式光刻机,曝光方式为接触接近式,G线(G-line)光刻机,使用的是436nm波长的光源。而I线(I-line)使用的是365nm波长的光源,这两种光刻机,也叫做紫外光刻机。 而第三代升级为投影式光刻机,利用光学透镜可以聚集衍射光提高成像质量将曝光方式升级为光学投影式光刻,以扫描的方式实现曝光。