I-line光刻胶是一种用于光刻过程的光敏材料，它对i-line（波长365nm）的紫外光有反应。I线光刻胶适用于中等线宽尺寸的图案制作。具体的适用线宽范围会根据光刻胶的特性、曝光条件和制程要求而有所变化。一般而言，I线光刻胶可实现亚微米级别的线宽。I-line光刻胶的主要组成部分包括：光敏剂：这是光刻胶中最重...
润湿剂:改善光刻胶在硅片上的涂覆性能,形成更均匀的膜层。 稳定剂:提高光刻胶的热稳定性和化学稳定性,保持图案精度。 抗蚀剂:增强光刻胶的耐蚀性,保护图案不受蚀刻液侵蚀。通过这些成分的巧妙组合,I-line光刻胶能够在光刻过程中精确地形成所需图案,为微电子制造提供关键支持。每一滴光刻胶都是科技与精密工艺...
产品名称 i-line光刻机 类型 光刻机 品牌 Nikon 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,则最终以订单结算页价格为准。
i-line光刻机采用的是i线光源,波长为365纳米。它通过以下几个步骤实现光刻的机制: 1. 掩膜对准:首先,在光刻胶上覆盖一层掩膜,掩膜上有芯片的电路图案。将掩膜放置在与光刻胶相接触的位置,并通过对准系统进行对准,确保掩膜上的图案与光刻胶的位置完全匹配。 2. 光刻胶涂覆:将光刻胶涂覆在硅片上,形成一层均...
8月31日消息,尼康公司通过官网发布公告称,将推出型号为“NSR-2205iL1”的5倍缩小的 i-line 步进式光刻机,该产品将用于制造电力和通信半导体以及 MEMS 等各种器件。与现有的尼康 i-line曝光系统相比,NSR-2205iL1 具有出色的经济性,无论晶圆材料如何,都可以优化各种半导体器件的生产。预计将于2024 年夏季上市销售...
8月31日,尼康宣布推出新一代5倍缩小的i-line步进式光刻机“NSR-2205iL1”,可用于制造功率、通信器件及MEMS器件等,并且完全兼容现有的尼康i-line曝光系统。 据官网资料,与现有的尼康i-line光刻机相比,NSR-2205iL1具有出色的性价比,无论何种晶圆材料,都可以优化各种半导体器件的生产。该设备预计将于2024年夏季上...
芯榜消息：日本佳能（7751）发布财务业绩简报。佳能下一财年用于功率半导体的i-line光刻机的预测显着增加。芯榜分析全球对功率半导体的资本投资可能会继续。从安全的角度来看，每个国家都在重复进行资本投资。产能将过剩，但对设备制造商来说将是顺风车。光刻机最核心的技术就是光源，光刻机按光源技术先进次序可分为 ...
-尼康官宣重磅新品发布!尼康推出新一代具有5倍缩小投影倍率的i-line步进式光刻机“NSR-2205iL1”,2024年夏季上市。该机具有缩小投影放大系统,支持功率半导体、通信半导体和MEMS等多种产品,并且与尼康现有i-line曝光设备高度兼容;NSR-2205iL1代表了尼康5倍步进技术在过
格隆汇10月31日丨飞凯材料(300398.SZ)在投资者互动平台表示，公司有生产应用于半导体制造及先进封装领域的光致抗蚀剂，目前公司相关产品主要有两类，第一类主要是应用在面板领域的正性光致抗蚀剂和负性光致抗蚀剂产品，当下两者已形成稳定营收；第二类是应用于半导体领域的i-line光致抗蚀剂及KrF光刻配套Barc材料光...
i-Line光刻机是一种使用波长为365nm的光源进行曝光的光刻设备,主要用于半导体制造过程中的图形转移。 i-Line光刻机的局限性 技术瓶颈:随着制程技术不断进步,对分辨率和精度的要求越来越高,i-Line光刻机由于波长限制,难以满足最先进的工艺需求。 市场竞争:相比更高级的ArF、ArFi和EUV光刻机,i-Line光刻机在高端...