采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过,532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能.结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响.通过观察薄膜的损...
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我目前没有找到好的database，只能通过搜论文解决，不知道题主是怎么解决的
氢氟酸(HF)可用来在玻璃上雕刻各种精美图案.雕刻过程中发生的反应为4HF+SiO2=R↑+2H2O.则R的化学式为( )A.SiFB.HFO2C.SiF4D.H2SiO3
氢氟酸(HF)可用来在玻璃(主要成分:SiO2)上雕刻各种精美图案,雕刻过程中发生的反应 为 4HF+SiO2=R↑+2H2O,则 R 的化学式为 A.SiF B.HFO2 C.SiF4 D.H2SiO3 试题答案 在线课程 练习册系列答案 名校课堂系列答案 西城学科专项测试系列答案 小考必做系列答案 ...
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