聚焦离子束(Focused Ion beam, FIB) 的系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器, 目前商用系统的离子束为液相金属离子源(Liquid Metal Ion Source, LMIS) , 金属材质为镓(Gallium, Ga) , 因为镓元素具有低熔点、 低蒸气压、 及良好的抗氧化力; 典型的离子束显微镜包括液相金属离子源、 电透镜...
离子推进器能产生微牛顿级的力,用于空间物体的导航,而我们陆地使用的 FIB 仪器则能制造、改造和表征微米到纳米级的物体。 FIB加工的主要应用仍然是为高分辨率成像技术服务,特别是为透射电子显微镜(TEM)和原子探针断层扫描(APT)以及使用扫描电子显微镜(SEM)进行三维体积成像而进行的样品区域选择性制备。关于这些重要而成...
Focused Ion Beam System (FIB/FIB-SEM) Lineup Focused Ion and Electron Beam System Ethos NX5000 The Hitachi Ethos FIB-SEM incorporates the latest-generation FE-SEM with superb beam brightness and stability. Ethos delivers high-resolution imaging at low voltages combined with ion optics for ...
Focused Ion Beam System (FIB/FIB-SEM) Lineup Focused Ion and Electron Beam System Ethos NX5000 The Hitachi Ethos FIB-SEM incorporates the latest-generation FE-SEM with superb beam brightness and stability. Ethos delivers high-resolution imaging at low voltages combined with ion optics for ...
聚焦离子束技术(FocusedIon beam,FIB)是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的离子束轰击材料表面,实现材料的剥离、沉积、注入、切割和改性。随着纳米科技的发展,纳米尺度制造业发展迅速,而纳米加工就是纳米…
FIB的应用Focused Ion Beam 聚焦离子束显微镜 (Focused Ion Beam, FIB) 聚焦离子束显微镜是运用镓 (Ga) 金属来做为离子源。因为镓的熔点为 29.76°C,且在此时的蒸气压为«10-13 Torr,所以很适合在真空下操作。在…
Focused ion beam scanning electron microscopy (FIB SEM) instruments for automated structural analysis, TEM sample preparation, and nanoprototyping.
Focused ion beam scanning electron microscopy (FIB SEM) instruments for automated structural analysis, TEM sample preparation, and nanoprototyping.
一、系统和工作原理 聚焦离子束显微镜(Focused Ion beam, FIB)的系统是利用电透镜将离子束聚焦成非常小尺寸的显微切割仪器,目前商用系统的离子束为液相金属离子源(Liquid Metal Ion Source,LMIS),金属材质为镓(Gallium, Ga),因为镓元素具有低熔点、低蒸气压、及良好的抗氧化力;典型的离子束显微镜包括液相金属离子源...
聚焦离子束FocusedIonBeamFIB 液态金属离子源 离子源 电子轰击型（质谱分析仪器）气体放电型（核物理研究）表面电离型 大面积离子源 光致电离型 场致气体电离型（场致离子显微镜）---小尺寸源 液态金属离子源：液态金属在强电场作用下产生场致离子发射。图1液态金属离子源结构示意图 液态金属离子源稳定...