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年,我们开Beneq 是原子层沉积的发源地。1984 年,我们建立了一个使用 ALD 的工业生产。今天,我们以研发(TFS 200,TFS 500,R2),半导体设备制造(TransformTM系列)、3D 和批量生产(P400A、P800、P1500)、超快空间原子层沉积 (C2R) 和卷对卷原子层沉积 (Genesis)。展开 ...
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.beneq TFS200R TFS200R连续性原子层沉 积薄膜系统 芬兰倍耐克公司的TFS200R是首台用于卷对卷式(Roll-to- Roll)原子层沉积和其他连续型原子层沉积(CALD)研究而设计 的ALD设备。TFS200R专用于在柔性衬底上沉积薄膜。柔性基 底材料固定在反应腔内部的旋转滚筒上。滚筒则被一些轴向排 列的喷嘴包围。每个喷嘴沿着...
受业主委托,千里马招标网于2024年06月18日发布采购ALD原子层沉积设备 Beneq TFS 200,项目简介:电镀设备浙江杭州发布时间:2024-06-18采购要求/询价意向询价物品ald原子层沉积设备beneqtfs200采购总量面议目标单价面议
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最大配置尺寸3000 x 3000 x 2250 mm3000 x 1250 x 2250 mm 产品优势 Beneq Transform® 凭借多功能性和灵活性,制造了全新的ALD集群工具设备。可适用于广泛的应用场景并满足不同的市场细分。
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ALD research equipment that adapts to your needs Designed for academic and corporate R&D, the Beneq TFS 200 is a highly versatile atomic layer deposition (ALD) platform, delivering superior film quality in true ALD mode. The system’s modular architecture allows for a wide range of upgrades, en...