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Beneq TFS 200原子沉积系统 Beneq TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的灵活的 ALD 平台。 Beneq TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至低而特别设计的。各种配置选项和升意味着 Beneq TFS 200 将与您一起成长,以满足高标准的研发需求。 Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适...
Beneq announced a new broad range of upgrades and options for its TFS 200 R&D thin film system. These new options allow users to better match current research needs and stay at the forefront of ALD research.Beneq’s upgrades and options expand the capabi
In 1984 Beneq started the world’s first industrial production using ALD. Today, we are the most recognized provider of ALD equipment and R&D services.
③直接和远程等离子体沉积(PEALD)可作为BENEQ TFS 200的标准选项。等离子体是电容性耦合(CCP),这是当今的工业标准。等离子体选件可为直径200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和远程等离子体增强沉积(PEALD)。 3.BENEQ装饰性镀膜: ①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和传感器、RF、LED、光学和高级封装应用的...
The Beneq TFS 200 research equipment and the single-wafer version of Beneq C2 are the tools for wafer ALD research and production. They are fast too. An example again: SiO2can be deposited on a Beneq single-wafer system at deposition rates of over 10 nm per minute (if you want to know...
Beneq’s solution for the OLED microdisplay manufacturer enabled a 50 nm thick Al2O3/TiO2 nanolaminate coating, which was deposited at a low temperature of 90°C using a fully automated Beneq TFS 200 ALD system integrated to the customer’s manufacturing cluster. ...
Beneq is the home of atomic layer deposition. In 1984, we established the world’s first industrial production using ALD. Today, we lead the market with products for R&D (TFS 200, TFS 500, R2), semiconductor device fabrication (Transform®), 3D and batch production (P400A...