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年,我们开Beneq 是原子层沉积的发源地。1984 年,我们建立了一个使用 ALD 的工业生产。今天,我们以研发(TFS 200,TFS 500,R2),半导体设备制造(TransformTM系列)、3D 和批量生产(P400A、P800、P1500)、超快空间原子层沉积 (C2R) 和卷对卷原子层沉积 (Genesis)。展开 ...
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Beneq TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的灵活的 ALD 平台。 Beneq TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至低而特别设计的。各种配置选项和升意味着 Beneq TFS 200 将与您一起成长,以满足高标准的研发需求。 Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适用于粉末,颗粒,多孔的基底材...
Beneq announced a new broad range of upgrades and options for its TFS 200 R&D thin film system. These new options allow users to better match current research needs and stay at the forefront of ALD research.Beneq’s upgrades and options expand the capabi
In 1984 Beneq started the world’s first industrial production using ALD. Today, we are the most recognized provider of ALD equipment and R&D services.
③直接和远程等离子体沉积(PEALD)可作为BENEQ TFS 200的标准选项。等离子体是电容性耦合(CCP),这是当今的工业标准。等离子体选件可为直径200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和远程等离子体增强沉积(PEALD)。 3.BENEQ装饰性镀膜: ①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和传感器、RF、LED、光学和高级封装应用的...
仪器名称:BENEQ 原子层沉积系统仪器编号:09016504产地:芬兰生产厂家:BENEQ型号:TFS200-106出厂日期:200810购置日期:200910所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点:微电子所新所一层微纳平台固定电话:固定手机:固定email:联系人:曹
The Beneq TFS 200 research equipment and the single-wafer version of Beneq C2 are the tools for wafer ALD research and production. They are fast too. An example again: SiO2can be deposited on a Beneq single-wafer system at deposition rates of over 10 nm per minute (if you want to know...