Designed for academic and corporate R&D, the Beneq TFS 200 is a highly versatile atomic layer deposition (ALD) platform, delivering superior film quality in true ALD mode. The system’s modular architecture allows for a wide range of upgrades, ensuring it can evolve alongside your research requir...
Beneq TFS 200原子沉积系统 Beneq TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的灵活的 ALD 平台。 Beneq TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至低而特别设计的。各种配置选项和升意味着 Beneq TFS 200 将与您一起成长,以满足高标准的研发需求。 Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适...
Beneq TFS 200 ALD原子层沉积设备商家一对一直推 更新时间:2024年07月13日 免费报名!享亿级流量补贴! 价格 ￥1000.00 起订量 1台起批 货源所属商家已经过真实性核验 店铺主推品 热销潜力款 发货地 上海 上海 数量 获取底价 查看电话 在线咨询...
设备名称:BENEQ原子层沉积系统 设备型号:TFS200-106 厂家:BENEQ 设备编号:09016504 设备分类:薄膜 设备功能简介 可通过原子层热沉积的方式进行Al2O3、HfO2、ZrO2、HZO等高k材料、阻变材料及原位电极材料的制备。 设备性能指标 1、样品尺寸:8寸及8寸以下兼容 2、生长精度:0.1...
Beneq announced a new broad range of upgrades and options for its TFS 200 R&D thin film system. These new options allow users to better match current research needs and stay at the forefront of ALD research.Beneq’s upgrades and options expand the capabi
.beneq TFS200R TFS200R连续性原子层沉 积薄膜系统 芬兰倍耐克公司的TFS200R是首台用于卷对卷式(Roll-to- Roll)原子层沉积和其他连续型原子层沉积(CALD)研究而设计 的ALD设备。TFS200R专用于在柔性衬底上沉积薄膜。柔性基 底材料固定在反应腔内部的旋转滚筒上。滚筒则被一些轴向排 列的喷嘴包围。每个喷嘴沿着...
仪器名称: BENEQ 原子层沉积系统 仪器编号: 09016504 产地: 芬兰 生产厂家: BENEQ 型号: TFS200-106 出厂日期: 200810 购置日期: 200910所属单位: 集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺 放置地点: 微电子所新所一层微纳平台 固定电话: 固定手机:
③直接和远程等离子体沉积(PEALD)可作为BENEQ TFS 200的标准选项。等离子体是电容性耦合(CCP),这是当今的工业标准。等离子体选件可为直径200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和远程等离子体增强沉积(PEALD)。 3.BENEQ装饰性镀膜: ①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和传感器、RF、LED、光学和高级封装应用的...
Ca-test performed on a 100nm Al2O3/TiO2nanolaminate at 23 C and 50% relative humidity resulted in a WVTR of 3×10-6g/m2day. Deposited with Beneq TFS 200 at Fraunhofer IAP. (Courtesy of Dr. Christine Boeffel, Fraunhofer IAP).
年,我们开Beneq 是原子层沉积的发源地。1984 年,我们建立了一个使用 ALD 的工业生产。今天,我们以研发(TFS 200,TFS 500,R2),半导体设备制造(TransformTM系列)、3D 和批量生产(P400A、P800、P1500)、超快空间原子层沉积 (C2R) 和卷对卷原子层沉积 (Genesis)。展开 14产品数 我要入驻 ...