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原子层沉积设备型号beneq tfs-200是芬兰BENEQ公司的产品,它是一款双腔体的原子层沉积系统,反应腔置于真空腔内,最高温度可达450°C,最大衬底尺寸为8英寸。
TFS 200原子层沉积ALD 简介:TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的最灵活的 ALD 平台。TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至最低而特别设计的。 TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适用于粉末,颗粒,多孔的基底材料,或是有高深径比的3D物体内沉积高保形薄膜。
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纳尔科NALCO THERMO 200 460-TFS200冷冻液，作为一款高性能的工业冷却剂，其5加仑（5GAL）的包装规格设计不仅满足了大规模生产线的需求，也兼顾了便捷存储与高效使用的平衡。这款冷冻液采用了先进的热力学配方，能够在极端温度条件下保持卓越的冷却效率，有效防止设备过热，延长机械使用寿命，是众多制造业领域不可或缺...
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