ALD系统主要尺寸 (L × W × H) 1325 × 600 × 1298 (mm) 电气柜主要尺寸 (L × W × H) 1000 × 300 × 1600 (mm) 了解ald设备详情 青岛四方思锐智能技术有限公司上海分公司 店铺信息 成立时间 2020-01-08 主营商品: 镀膜设备;业薄膜镀膜;层沉积设备 销售品牌: beneq、Beneq 厂家地址:...
Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适用于粉末,颗粒,多孔的基底材料,或是有高深径比的3D物体内沉积高保形薄膜。 直接和远程等离子体沉积 (PEALD) 可作为 Beneq TFS 200 的标准选项。等离子体是电容性耦合(CCP),这是当的工业标准。等离子体选件可为直径200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和...
Beneqannounced a new broad range of upgrades and options for its TFS 200 R&D thin film system. These new options allow users to better match current research needs and stay at the forefront of ALD research. Beneq’s upgrades and options expand the capabilities of existing ALD tools by adding ...
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Beneq TFS 200 ALD原子层沉积设备商家一对一直推 价格 ￥1000.00 起订量 1台起批 货源所属商家已经过真实性核验 发货地 上海 上海 所属类目 机械设备;电子产品制造设备;其他电子产品制造设备 产品标签 Beneq;原子层沉积设备;原子层沉积;原子层沉积系统;ALD设备 获取底价 查看电话 在线咨询 青岛四方思锐智能...
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TFS 200原子层沉积ALD 简介:TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的最灵活的 ALD 平台。TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至最低而特别设计的。 TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适用于粉末,颗粒,多孔的基底材料,或是有高深径比的3D物体内沉积高保形薄膜。
直接和远程等离子体增强沉积 (PEALD) 是 Beneq TFS 200 的标准选件。等离子体是电容耦合 (CCP),这是当今的行业标准。CCP 等离子选件为高达 200 毫米的基板提供直接和远程等离子体增强 ALD (PEALD),正面朝上或面朝下。 处理周期时间通常小于 2 秒。在特定情况下甚至不到 1 秒 高纵横比 (HAR) 可用于具有通...
直接和远程等离子体增强沉积 (PEALD) 是 Beneq TFS 200 的标准选件。等离子体是电容耦合 (CCP),这是当今的行业标准。CCP 等离子选件为高达 200 毫米的基板提供直接和远程等离子体增强 ALD (PEALD),正面朝上或面朝下。 处理周期时间通常小于 2 秒。在特定情况下甚至不到 1 秒 高纵横比 (HAR) 可用于具有通...