Beneq TFS 200原子沉积系统 Beneq TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的灵活的 ALD 平台。 Beneq TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至低而特别设计的。各种配置选项和升意味着 Beneq TFS 200 将与您一起成长,以满足高标准的研发需求。 Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适...
原子层沉积设备型号beneq tfs-200是芬兰BENEQ公司的产品,它是一款双腔体的原子层沉积系统,反应腔置于真空腔内,最高温度可达450°C,最大衬底尺寸为8英寸。
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Beneq announced a new broad range of upgrades and options for its TFS 200 R&D thin film system. These new options allow users to better match current research needs and stay at the forefront of ALD research.Beneq’s upgrades and options expand the capabi
③直接和远程等离子体沉积(PEALD)可作为BENEQ TFS 200的标准选项。等离子体是电容性耦合(CCP),这是当今的工业标准。等离子体选件可为直径200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和远程等离子体增强沉积(PEALD)。 3.BENEQ装饰性镀膜: ①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和传感器、RF、LED、光学和高级封装应用的...
查看详情 Beneq TFS 200 ALD原子层沉积设备商家一对一直推 ￥1000.00 查看详情 TFS 500 是薄膜镀膜应用的理想选可用于 ALD 科研及稳定的批量生产 ￥1000.00 查看详情 Beneq P800 原子层沉积设备满足应用开发和薄膜研发过程中的镀膜 ￥1000.00 查看详情 Beneq Transform™在工艺制备中可满足苛刻的薄膜沉积光学镀膜设...
In 1984 Beneq started the world’s first industrial production using ALD. Today, we are the most recognized provider of ALD equipment and R&D services.