The Beneq TFS 200 provides the flexibility, precision, and scalability required for innovative ALD research. Tech Specifications TFS 200 ProductTFS 200TFS 500 Dimensions (L x W x H)1325 mm x 600 mm x 1298 mm1800 mm x 900 mm x 2033 mm ...
Beneq TFS 200原子沉积系统 Beneq TFS 200 是一款适用于科学研究和企业研发的灵活的 ALD 平台。 Beneq TFS 200 是为多用户研究环境中将可能发生的交叉污染降至低而特别设计的。各种配置选项和升意味着 Beneq TFS 200 将与您一起成长,以满足高标准的研发需求。 Beneq TFS 200 不仅可以在晶圆,平面物体上镀膜,还适...
Beneq TFS 200 ALD原子层沉积设备商家一对一直推 更新时间:2024年07月13日 免费报名!享亿级流量补贴! 价格 ￥1000.00 起订量 1台起批 货源所属商家已经过真实性核验 店铺主推品 热销潜力款 发货地 上海 上海 数量 获取底价 查看电话 在线咨询...
Beneqannounced a new broad range of upgrades and options for its TFS 200 R&D thin film system. These new options allow users to better match current research needs and stay at the forefront of ALD research. Beneq’s upgrades and options expand the capabilities of existing ALD tools by adding ...
③直接和远程等离子体沉积(PEALD)可作为BENEQ TFS 200的标准选项。等离子体是电容性耦合(CCP),这是当今的工业标准。等离子体选件可为直径200毫米的基板(面朝上或面朝下)提供直接和远程等离子体增强沉积(PEALD)。 3.BENEQ装饰性镀膜: ①BENEQ Transform™是功率器件、MEMS和传感器、RF、LED、光学和高级封装应用的...
仪器名称:BENEQ 原子层沉积系统仪器编号:09016504产地:芬兰生产厂家:BENEQ型号:TFS200-106出厂日期:200810购置日期:200910所属单位:集成电路学院>微纳加工平台>薄膜工艺放置地点:微电子所新所一层微纳平台固定电话:固定手机:固定email:联系人:曹
.beneq TFS200R TFS200R连续性原子层沉 积薄膜系统 芬兰倍耐克公司的TFS200R是首台用于卷对卷式(Roll-to- Roll)原子层沉积和其他连续型原子层沉积(CALD)研究而设计 的ALD设备。TFS200R专用于在柔性衬底上沉积薄膜。柔性基 底材料固定在反应腔内部的旋转滚筒上。滚筒则被一些轴向排 列的喷嘴包围。每个喷嘴沿着...
查看详情 Beneq TFS 200 ALD原子层沉积设备商家一对一直推 ￥1000.00 查看详情 TFS 500 是薄膜镀膜应用的理想选可用于 ALD 科研及稳定的批量生产 ￥1000.00 查看详情 Beneq P800 原子层沉积设备满足应用开发和薄膜研发过程中的镀膜 ￥1000.00 查看详情 Beneq Transform™在工艺制备中可满足苛刻的薄膜沉积光学镀膜设...
受业主委托,千里马招标网于2024年06月18日发布采购ALD原子层沉积设备 Beneq TFS 200,项目简介:电镀设备浙江杭州发布时间:2024-06-18采购要求/询价意向询价物品ald原子层沉积设备beneqtfs200采购总量面议目标单价面议
In 1984 Beneq started the world’s first industrial production using ALD. Today, we are the most recognized provider of ALD equipment and R&D services.