正胶S1800光刻胶属于紫外光刻胶-薄胶,适用于g-Line,broad line光谱,厚度范围在0.5-3.5um,分辨率为0.5um,正胶S1800光刻胶是正性光刻胶,稳定性好;适用于分辨率要求较高的光刻工艺。 AZ5214属于紫外光刻胶-薄膜,适用g/h/i-Line光谱,厚度范围在1-2um之间,分辨率为0.5um,通常应用于反转胶工艺。 BCI-3511属于...
az5214 光刻胶是一种高性能的光刻胶,它的成分主要包括以下几个部分: 一、主要成分 az5214 光刻胶的主要成分包括感光树脂、溶剂、添加剂等。感光树脂是光刻胶的核心部分,它会在光照作用下产生化学变化,从而实现对材料的曝光。溶剂是光刻胶的载体,它能够将感光树脂溶解并传递到所需的曝光区域。添加剂主要用于提高...
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科研安智AZ系列进口光刻胶及国产替代胶配套显影增粘稀释液 AZ5214 京东价 ￥降价通知 累计评价 0 促销 展开促销 配送至 --请选择-- 支持 品牌名称:扬笙福 商品型号:- 订货编码:10108639588384 包装规格:- 选择材质 AZ5214 AZ4620 其他型号请咨询客服 ...
@苏州博纳微电子科技有限公司az5214光刻胶参数 苏州博纳微电子科技有限公司 AZ5214光刻胶属于紫外光刻胶-薄膜,适用g/h/i-Line光谱,厚度范围在1-2um之间,分辨率为0.5um,通常应用于反转胶工艺。另外,它还是一种正/负可改变型光刻胶,具有高解像度图形反转的特性,特别为lift-off工艺优化,刻蚀厚度从1μm到150μm...
AZ5214是正型抗蚀剂,但在特定的工艺条件下,它会产生像反转,从而可用作负型抗蚀剂。一 种抗蚀荆既可作正型的.也可用作负型的,这在一些应用中有着特殊的意义。它不仅简化了工 艺,而且出现了一些巧妙的用途。例如,在光学LIGA技术中.利用AZ5214的反转特性.可用 ...
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AZ5214E高解像度图形反转正/负可改变型光刻胶,特别为lift-off工艺优化。AZ5214E匀胶厚度1.5μm~3μm,AZ5200E系列匀胶厚度为:0.5μm~6μm。 AZ5214E特征: 1) 适用于高分辨率工艺(lift-off工艺); 2) 适用于正/负图形; 3) 很宽的膜厚范围。
AZ5214 g/h/i-Line 1-2um 0.5um 反转胶 BCI-3511 i-Line 0.5-2 0.5um 正性i线光刻胶,适用于各类接触式光刻机(mask aligner)、stepper SPR 955 i-Line 0.5-3.5 0.35um 正性i线光刻胶,适用于分辨率要求较高的湿法腐蚀和干法刻蚀 AZ 1500 g/h/i-Line 0.5-5 1um 正性光刻胶,...