AZ5214反转胶在电镀工艺中的应用
AZ5214反转胶在电镀工艺中的应用构 下载积分: 350 内容提示: 2014 年 7 月( 上)[摘 要] 介绍了一种基于反转光刻胶的电镀工艺,改善了电镀后器件剖面的形貌,有效的减小了后续淀积隔离介质产生的空洞。通过实验,优化了光刻显影工艺参数,并成功应用与批量生产中,提高了器件的可靠性与生产的成品率。[关键词] 反转...
研究了AZ5214E反转光刻胶的性能并选择 适当的工艺可制得利于剥离的倒台面,并将其应用于 射频MEMS开关的制作中剥离厚2m的金薄膜。用 扫描电镜(SEM)测出胶的侧壁为倒台面。 关键词:AZ5214E;反转;剥离 中图分类号:TM38 文献标识码:A 文章编号:1001-9731(2005)O3一O43卜O3 ...
内容提示: 堕 堑箜!垒兰 A Z5214E 反转光刻胶 的性能研究及其在 剥离工艺 中的应用 垦 垦堑 型堕 竺堑 窒垦基垄型塞三茎主 查旦— ——— 陈光红 ,于映, 罗仲梓。 , 昊清鑫 ( 1.福州大学 电子 系, 福建 福州 350002; 2.厦门大学 萨本栋微机电中心 , 福建 厦门 361005) 摘适 当的工艺可制...
E反转光刻胶的性能并选择 适 当的工艺可制得利 于剥 离的倒 台面 并将其应 用于 射频 ME MS开关的制作 中剥离厚 2 m 的金薄膜 用 扫描 电镜 S EM 测 出胶 的侧 壁 为倒 台面 关键词 AZ 5 2 1 4 E 反转 剥离 中图分类号 TM3 8 文献标识码 A 文章编号 1 0 0 1 9 7 3 1 2 0 0 5...
“AZ5214反转胶在电镀工艺中的应用”出自《科技风》期刊2014年第13期文献,主题关键词涉及有反转光刻胶、隔离介质、空洞、电镀等。钛学术提供该文献下载服务。
其实并不建议用5214，即贵，工艺还复杂。如果线宽不是很细的话，建议用lift off专用负胶。有什么详细...
品牌光刻胶 黑白光阻 铜制成工艺 产品型号AZGXR601 AZ5214E 货源所属商家已经过真实性核验 商品数量2222 所属系列安智AZ光刻胶 关键词蒸镀 高分辨率光刻胶 数量-+ 产品信息 联系方式 05、结语 三星意欲在代工领域中有所建树,在市场竞争中搏一下,对于全球代工业肯定是件好事。
采用表面加工工艺,AZ5214E光刻胶进行光刻并反转,磁控溅射Ni Cr合金,剥离出高度为2.3μm的金属桥墩,填充聚酰亚胺作为牺牲层,再在牺牲层上光刻,沉积金属形成金属桥面,在... 李元元,蒙庆华,陈四海,... - 《传感器与微系统》 被引量: 0发表: 2016年 32Mbits相变存储阵列工艺研究 AZ5214光刻胶磁控溅射剥离相变存储...
研究AZ5214E反转光刻胶经过适当的工艺可形 成“倒八字形”台面,即光刻胶侧壁图形上宽下窄,使淀 积的金属在光刻胶掩膜区域断开,有利于剥离。剥离 出射频MEMS开关中厚2m的金波导和厚200nm的 电极和触点,并用SEM观察光刻胶侧壁的图形为“倒 八字形”台面。 2 实验 实验中在直径为25ram的石英基片上,用 AZ...