2）步进重复式：硅片表面上某个曝光场完成曝光 后，硅片台进行步进运动，使得下一个曝光场得以继续曝光。步进重复式光刻机（Stepper）基本能够满足 250nm以上线宽制程的工艺要求，目前仍然应用在芯片非关键层、封装等精度要求相对较低的领域。（3）步 进扫描式：步进扫描式光刻机（Stepper&Scanner）通过动态扫描的方...
PAS 5500 按照模块化设计，客户可以根据不同工艺随意选配不同部件包，包括：55/100/200B/250C/300B/400D/700B/750E/850C 等等等，涵盖了各种光源（i 线和 KrF），各种尺寸（4-12 英寸），各种镜头（i 线和 KrF 镜头），各种投影模式（stepper/scanner）。这就使得一台设备能够实现百花齐放。PAS 5500 的战...
(2)步进重复式:硅片表面上某个曝光场完成曝光 后,硅片台进行步进运动,使得下一个曝光场得以继续曝光。步进重复式光刻机(Stepper)基本能够满足 250nm以上线宽制程的工艺要求,目前仍然应用在芯片非关键层、封装等精度要求相对较低的领域。(3)步 进扫描式:步进扫描式光刻机(Stepper&Scanner)通过动态扫描的方式,使得...
1978年,GCA 推出真正现代意义的自动化步进式光刻机(Stepper) GCA8500,分辨率比投影式高5倍达到1微米。1980年尼康发售了自己首台商用Stepper NSR-1010G(1.0um),拥有更先进的光学系统(光源还是i-line)极大提高了产能,与GCA 的stepper一起统治主流市场。 1982 年,IBM 的Kanti Jain 开创性地提出准分子激光光刻(光源...
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(3)步 进扫描式:步进扫描式光刻机(Stepper&Scanner)通过动态扫描的方式,使得掩模版相对晶圆同步运动,可 完成26mm×33mm曝光场的曝光,当前曝光场扫描完毕后,转移至下一个曝光场继续进行扫描曝光,直至整 个晶圆所有曝光场完成曝光。得益于有效提升掩模的使用效率和曝光精度,步进扫描式光刻机现已成为主流 光刻机型,...
1977年，我国最早的光刻机JGK-3型半自动光刻机诞生；1985年，中电科45所研制出中国首台g线1.5um分步光刻机，而美国是在1978年研制出自动化步进式光刻机(Stepper)的，按照这个时间节点算，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。重点是，在那时，国产光刻机水平均不低，最保守估计跟当时先进的Canon相比，...
1977年,我国最早的光刻机JGK-3型半自动光刻机诞生;1985年,中电科45所研制出中国首台g线1.5um分步光刻机,而美国是在1978年研制出自动化步进式光刻机(Stepper)的,按照这个时间节点算,中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。重点是,在那时,国产光刻机水平均不低,最保守估计跟当时先进的Canon相比,差距最多...
New I-liner from ASML.Reports that ASM Lithography (ASML) will add a new I-line wafer stepper to its PAS 5500 line. It will incorporate the Aerial illuminator for off-axis illumination; Number of wafers the ASML stepper will process per hour.EBSCO_AspElectronic News (10616624)...
而这个时候，尼康的敌人ASML开始正式成立，当时飞利浦在实验室里研发出 Stepper 的原型，但是没有人愿意买，所以后来独立了出去。ASML最早成立时的简易平房，后面的玻璃大厦是飞利浦另一方面 美日光刻机大战 1986年，半导体市场遭遇大滑坡，美国的光刻机企业或破产或被收购，可以说全部崩塌，美国的光刻机时代宣告结束，...