2)步进重复式:硅片表面上某个曝光场完成曝光 后,硅片台进行步进运动,使得下一个曝光场得以继续曝光。步进重复式光刻机(Stepper)基本能够满足 250nm以上线宽制程的工艺要求,目前仍然应用在芯片非关键层、封装等精度要求相对较低的领域。(3)步 进扫描式:步进扫描式光刻机(Stepper&Scanner)通过动态扫描的方...
1978 年,GCA 推出真正现代意义的自动化步进式光刻机 (Stepper),分辨率比投影式高 5 倍达到 1 微米。这个怪怪的名字来自于照相术语 Step and Repeat,这台机器通俗点说把透过掩膜的大约一平方厘米的一束光照在晶圆上,曝光完一块挪个位置再刻下一块。但是因为生产效率不高,所以投影式光刻机仍然占据了主导地位...
1978年,GCA 推出真正现代意义的自动化步进式光刻机(Stepper) GCA8500,分辨率比投影式高5倍达到1微米。1980年尼康发售了自己首台商用Stepper NSR-1010G(1.0um),拥有更先进的光学系统(光源还是i-line)极大提高了产能,与GCA 的stepper一起统治主流市场。 1982 年,IBM 的Kanti Jain 开创性地提出准分子激光光刻(光源...
ASML被广为传播成是飞利浦分离的出来的,虽然不能说不对,但是和大家想象的那样子还是不同的。 飞利浦在实验室里研发出stepper的原型,但是不够成熟。因为光刻市场太小,飞利浦也不能确认它是否有商业价值,去美国和P&E、GCA、Cobilt、IBM等谈了一圈没人愿意合作。 有家荷兰小公司叫ASM International的老板Arthur Del P...
Perkin-Elmer、Ultratech Stepper(General Signal的子公司)等其他小公司的步进式光刻机项目虽然还在苦苦坚持,但在面临尼康、佳能的竞争时优势也不大。美国国家半导体公司(National Semiconductor Corporation)副总裁Jim Owens在1987年就指出,在GCA失败之后,尽管国家半导体公司从尼康、佳能那里采购海外最先进的光刻机暂时...
2016 年,ASML、尼康与佳能在不同行业起到了领导性作用。图 2 是 I-line stepper 市场份额情况,I-line stepper 可为所有类型光刻工具提供最低分辨率,售价在 4~6 百万美元。出售的 79 种工具中,大部分是升级版,因为它们的鼎盛时期在 1990 年初,但它们仍然被应用于需要低分辨率的应用场景中。
1977年,我国最早的光刻机JGK-3型半自动光刻机诞生;1985年,中电科45所研制出中国首台g线1.5um分步光刻机,而美国是在1978年研制出自动化步进式光刻机(Stepper)的,按照这个时间节点算,中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年。重点是,在那时,国产光刻机水平均不低,最保守估计跟当时先进的Canon相比,...
ASML、尼康与佳能于2016年,在不同行业起到了领导性作用。图2是I-line stepper市场份额情况,I-line stepper可为所有类型光刻工具提供最低分辨率,售价在4~6百万美元。出售的79种工具中,大部分是升级版,因为它们的鼎盛时期在1990年初,但它们仍然被应用于需要低分辨率的芯片上。
1980 年尼康发售了自己首台商用 Stepper NSR-1010G(1.0um),拥有更先进的光学系统(光源还是 i-line)极大提高了产能。与 GCA 的 stepper 一起统治主流市场。1982 年,IBM 的 Kanti Jain 开创性的提出准分子激光光刻(光源为 KrF 和 ArF)。 美国三雄统治 1980 年之前的光刻机市场,日本佳能、尼康抓住产业转移机会...
按金额算,DUV的低端部分已经很少了,同时按金额和数量算,更低端 i-line stepper已经微乎其微了,...