1.早期紫外光源（g-line/i-line）：1960-1980年代，光刻机采用汞灯光源，g-line（436nm）和i-line（365nm）分别支持微米级工艺。接触式与接近式光刻机通过直接投影实现电路转移，但受限于掩膜磨损和衍射效应，分辨率仅达1μm。这一阶段的技术奠定了光刻工艺的基础框架，但无法满足更高集成度的需求。2.深紫外光...
目前，EUV光刻技术已实现3nm的大规模生产，2nm技术即将面世，预计未来将推出1nm技术，这将使半导体行业进入一个全新的时代。从最近的销售数据来看，ASML在IC光刻市场高端市场的领先地位更加稳固。在截至2024年6月的三个月内，ASML售出了8台EUV、32台ArF浸没式、11台ArF干式、33台KrF和16台i-line光刻系统，充分展...
本公司生产销售显微光刻灯 光刻灯 压高设备,提供显微光刻灯专业参数,显微光刻灯价格,市场行情,优质商品批发,供应厂家等信息.显微光刻灯 显微光刻灯 品牌日本osram|产地广东|价格1.00万|型号RH-8800|规格1000|物镜放大倍数35-7000|仪器放大倍数7000|类型视频显微镜|目镜放大
ASML公司的产品线包括极紫外光刻机、ArF光刻机、KrF光刻机和i-line光刻机。特别是EUV光刻机，具有最高的分辨率和精度，能够支持更小的技术节点，提升了芯片生产供应链的竞争力。我国长期与ASML公司合作引进其光刻机产品。不过，最近，美国采取了新的行动，要求ASML公司出口产品给中国时增加申请手续，若含有美国零件...
ASML i-line步进式光刻机PAS 5500/100D二手翻新修改现货 PAS5500/100Di线步进设计用于0.4µm的大规模生产,在其可变数值孔径(NA)保持最大功能性的同时实现极高的吞吐量。该步进器通过优化关键工艺层的聚焦深度和分辨率,扩展了i-line制造多代亚半微米设计规则的能力。
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ASML二手翻新i-line光刻机PAS 5000/40 ASML i-line光刻机PAS5000/40使用0.40NA i-line 镜头,像场直径为21.1mm。该步进器使用i-line工艺针对 0.7 微米以下的生产分辨率进行了优化。
设备系统产品分为IC前道光刻机和量测设备两大类,其中IC光刻机应用于IC 前道光刻工序中的曝光步骤,在设备系统中的收入占比超过95%。按照光源种类对ASML的IC光刻机进一步 拆分,可分为I-line光刻机、DUV光刻机(KrF、ArF、ArFi)和EUV光刻机。 过去十年业绩稳健增长,未来业绩指引相对乐观...
如果按照光源类型划分，不仅有 EUV 光刻机，还有 ArF 浸入式光刻机、ArF 干式光刻机、KrF 光刻机、i-line 设备等。其中，ArF、ArF 和 KrF 都属于深紫外线光刻机 (DUV)，这也是当前半导体制造的主力。从 2012 年到 2023 年，ASML 出货量 2235 台 DUV 光刻机。从 2012 年的出货量来看，ArFi 和 KrF 等...
如果按照光源类型划分，不仅有EUV光刻机，还有ArF浸入式光刻机、ArF干式光刻机、KrF光刻机、i-line设备等。其中，ArF、ArF和KrF都属于深紫外线光刻机(DUV)，这也是当前半导体制造的主力。从2012年到2023年，ASML出货量2235台DUV光刻机。从2012年的出货量来看，ArFi和KrF等深紫外线光刻机(DUV)出货量远超EUV光...